弯道超车失败，三个坏消息传来，外媒：暴露了真实水平

中国为了能够在芯片领域实现自主生产芯片，可以说是投入了大量的人力物力，在国家政策的支持下，大量芯片厂商涌入芯片赛道。国内以中科院和“国防七子“高校为首的研究院和高校也纷纷投入到芯片产业链的研发当中。

在大力投资之下，中国在半导体产业链方面也是接连不断的取得各种重大突破，例如长春光机所研发出来EUV光刻机的工程样机，哈工大研发出EUV光刻机的核心难点之一的光源设备，中芯国际突破了7nm制程工艺。

除此之外，还有蚀刻机、光刻机、EDA软件、芯片指令集架构等多个方面都有所突破。一时之间看似国内的芯片产业即将追上国际顶尖水平，甚至有望在光子芯片、量子芯片等领域实现弯道超车，制造出不需要EUV光刻机也能够大规模量产的高端芯片。

不过从实际情况来看，中国半导体产业依然处于被限制的状态，甚至在美国一心想要将中国排除在世界供应链之外的情况下，中国半导体产业的发展甚至可能倒退回45nm。这并非是因为中国取得的半导体产业突破是虚假的或者是夸大的，主要原因是半导体产业链实在太过庞大和复杂，想要独立打造出完整的半导体产业链十分困难，目前没有一个国家能够实现。

根据最新消息，最近有三个半导体产业的坏消息传出，分别是荷兰正式开始限制浸没式DUV光刻机的出口，日本将在7月23日开始6类23种半导体设备的出口限制，以及中芯国际下架了官网上14nm芯片的代工信息。

这三个坏消息其实都和美国、日本、荷兰的三方协议有关，美国也希望能够借助这一半导体设备“组合拳”彻底打压中国半导体产业的发展。

荷兰宣布限制浸没式DUV光刻机的出口

目前全球只有荷兰的ASML能够生产EUV光刻机，但是由于瓦森纳协定的缘故，ASML无法自由出货EUV光刻机给中国厂商。美国对于这种程度的限制并不满意，因此在去年的时候和荷兰、日本签订了三方协议。

就在最近，荷兰方面宣布将限制部分浸没式DUV光刻机的出口，其中包括2010i、2000i以及2030i等系列的光刻机。这些浸没式DUV光刻机虽然无法和EUV光刻机相比，但是可以应用于生产28nm及以下制程的芯片，是目前中国需求最大的光刻机。

荷兰限制出口之后，ASML能够继续出货到中国市场的光刻机当中，最先进的就是1980Di光刻机，但是这一款光刻机也只能生产38nm的芯片，多次曝光虽然可以生产出7nm芯片，但是难度和材料要求、成本都很高，并且良品率极低，可以说是完全满足不了国内的需求。

日本限制23种半导体设备出口

和荷兰一样，日本也限制了半导体设备的出口，只不过日本的限制范围并不只限于光刻机，还包括蚀刻机、曝光机等几乎所有芯片生产过程当中需要使用到的半导体设备。日本的限制制程范围甚至比荷兰还要高，基本上45nm制程以下的半导体设备都在限制范围之内。

目前国内厂商虽然在这些半导体设备方面都有一定的国产化替代，可是只有部分设备的国产化替代率达到了50%以上，甚至有些设备的国产化替代率仅有1%左右。这也就意味着，日本限制半导体设备出口限制，中国的芯片生产将有可能被卡在很多个环节。

除了半导体设备之外，中国在半导体材料方面的国产化替代率也不高，目前仅有1%左右，在最先进的EUV光刻胶方面更是几乎没有研发涉猎。这就导致如果日本后续进一步限制半导体材料的出口，那么中国将会面临更难堪的局面。

中芯国际下架官网14nm制程芯片代工

前一段时间，中芯国际宣布完成了14nm芯片的大规模量产，之后中芯国际又宣布成功研发出7nm芯片制程技术，并且即将开始5nm芯片技术的研发，在N+1和N+2等技术方面也取得了重大的突破，将要开始代工14nm的中端麒麟芯片。

可是最近中芯国际突然在官网上下架了14nm芯片代工的相关信息。虽然中芯国际并没有明确的表示这是因为什么，不过从各方面的情况来看，很大可能性上还是因为本次三方协议，日本、荷兰、美国纷纷限制了14nm制程及以下光刻机的出口。

中芯国际是芯片代工厂商，其光刻机等设备都需要从外界购买，目前国内最先进的光刻机仅有90nm制程水平，因此中芯国际大多数的光刻机设备都需要从国外购买，例如荷兰的ASML，日本的尼康、佳能等。

因此，在日本、荷兰、美国限制了14nm制程及以下光刻机的出口之后，中芯国际无法获得足够的光刻机，也只能下架14nm代工业务了。

从目前情况来看，中国芯片厂商发展迅速，但是想要建立起完整的芯片产业链，还需要有一段不短的路要走，中国厂商最主要的还是要加强自主研发。