中国光刻机成“废铁”？日本站队老美，任正非：和平是打出来的

众所周知，为了限制“中国芯”的发展，老美可算是所有“烂招”都用上了，没有给中企留下任何机会。先是修改了芯片规则，后是颁布了芯片法案，再后来又组建了“四方联盟”，统一战线，阻止国内芯片的发展。值得一提的是，老美早就锁定了芯片制造这一关键环节，利用光刻机，对“中国芯”重拳出击。

被逼上绝路的中国科技企业，唯有开启光刻机的自研。但熟悉光刻机的小伙伴都知道，光刻机的构造极其复杂，除了有成千上万的零部件外，还有很多难度极高的核心技术。

事实上，中芯国际在美修改芯片规则前，就已经给ASML公司打了全款，想要采购一台EUV光刻机。但由于老美的搅局，这笔买卖只能变为“泡影”。无法获得EUV光刻机，也间接导致中芯国际失去了冲击7nm以下先进芯片市场的机会，所以中芯国际只能退回到14nm/28nm成熟芯片市场。

在多次制裁下，“中国芯”不得不走上自研之路，建立国产供应链。但有一点需要明确的是，自研光刻机不是一蹴而就的事情，需要科技创新和技术积累，或许要花费不少时间。所以在自主研发的同时，中企也开始寻找绕开ASML公司的另一条外购道路，尼康、佳能等日光刻机巨头就成为了中企的“救命稻草”。

但让人意外的是，日本站队老美，从7月23日起，日光刻机企业也将限制对中国企业的供应，涉及光刻机、光刻胶以及蚀刻机等23种半导体设备以及材料都将受到出口管制。这也就意味着，除了7nm先进工艺外，老美将会联合日本，对中国的14nm以下高端芯片制程进行管控，这或许就是中芯国际官网下架有关14nm工艺信息的主要原因。

不可否认，日本在半导体领域已经不算拔尖了，但其优势在于早已实现了全产业覆盖，无论是光刻机还是芯片制造材料，日本掌握了19种关键设备材料，在芯片行业也拥有绝对的话语权。所以日本的“插足”给“中国芯”的发展也制造了很大的阻碍，不少业界都认为，中国光刻机要变成“废铁”，无法再进一步了。

客观来说，外界对“中国芯”唱衰的声音没有间断过，咱们也不能气馁。如任正非所言，和平是打出来的。中国科技产业想要争一口气，必须坚持自主研发。万里长征都走过了，还怕小小的芯片吗？

科技的竞争拼得就是人才，拼得就是技术，“中国芯”的发展也绕不开人才和技术。首先，中国科技企业要积极参与人才的培养，和高校进行产研合作，争取把国家培养的人才都留在国内。其次，中国科技企业也要重视科研，学习华为，再困难也不能放弃科技研发，加强自研的同时进行多元化布局，增强综合实力。在数以万计的中企的共同努力下，我们终会实现独立自主，拥有自己的芯片！对此，你怎么看呢？欢迎评论留言！