ASML指责中国研发光刻机后，哈工大再获突破，美媒：怎么制裁？

自从美国总统特朗普上台开始，美国就对中国实施了一系列的制裁,。而到了拜登政权上台，中美关系可以说到了山雨欲来风满楼的境地。所以，这样紧张的关系令全球陷入危机。

中国在高科技芯片制造方面一直处于落后的水平。但是在ASML指责中国研发光刻机之后，哈工大的研究再次取得突破。美国媒体纷纷表示，此刻应该怎样制裁中国科技发展？

这里先给大家科普一下，光刻机对于芯片制造的重要性就相当于心脏对人一样重要。它决定了芯片制造的成败。如果没有光刻机起作用，那么所得到的芯片就是一张一无是处的图纸。

所以光刻机对于芯片来说可以起到至关重要的作用，它是芯片制造中不可缺少的设备。我国当时因为技术水平还不过关，所以一直需要依靠进口外国生产的光刻机来满足我们的需求。

可以这样说，我们芯片应用制造方面很大程度上由外国进口的光刻机所决定。

而生产光刻机的企业一般都在国外，比如荷兰的ASML公司，就是全球数一数二的半导光刻机设备制造商，可以说是一个具有垄断地位的公司，它出产的光刻机产量占了全球的7成。

而且还有一点就是，2018年的时候中美之间爆发了竞争，几乎各行各业都受到影响。

美国通过其技术手段，对我国的光刻机技术实行技术封锁，重点打压，企图限制我国的半导体发展。我国中兴，华为等高科技企业遭遇了限制和制裁以至受到了巨大的打击。

此以外美国还不断修改芯片方面的法令，把我国的多家高科技公司都拉进黑名单，还联合其他国家一起制裁中国，限制日本荷兰等国对我国出口设备。

但是自强自立的中国人是吓不倒的，曾经我们没有飞机大炮还不是凭借小米加步枪战胜了不可一世的敌人，所以别人不给我们予以方便，我们只能靠自己自行研发。

国内顶尖高校，国防七子之一的哈尔滨工业大学，最近成功研发了一款国产EUV光刻机。

这种光刻机通过超高密度激光干涉仪技术的突破，克服了真空环境下的限制，成功地制造了超高精度的真空双工件台。由此，哈尔滨工业大学荣获了中国光学领域最高荣誉奖项。

这可以说是一个喜大普奔，振奋人心的消息。

而不久，哈工大又一喜讯传来：他们成功攻克了ASML最引以为傲的光源子系统。这一成果的取得，标志着哈工大在光刻机领域的技术实力和创新能力又上了一个新的台阶。

哈尔滨工业大学在光刻技术方面取得的多次突破，这使得中国自主研发的光刻机目标瞄准了7纳米工艺。

一旦中国的光刻机得以交付使用，美国和其他西方国家将无法再通过封锁手段限制我们的半导体产业的发展。

这种先进的技术需要极高的稳定性和精密度，该突破对中国半导体制造业来说具有重大意义。

近日，ASML总裁就中国自主研发光刻机这个成果发表了批评，称这样破坏全球供应链平衡。

实际上，他的真正担忧在于中国的光刻机一旦成功上市，将会威胁到ASML在全球的地位。

ASML总裁的指责，只能证明他们奉行的是双标的准则，他们不想中国变得强大。

于光刻机的研发，我们必须势在必得，只有通过自主创新才能打破美国和欧洲等国家对半导体产业的垄断，减少对海外设备的依赖，才能在半导体领域中获得主导权。

总体而言，克服国外技术封锁是势在必行的。哈尔滨工业大学在光刻机技术领域的成功突破已经引起了外界的高度关注。

国产EUV光刻机具有巨大的潜力，预计很快，国内的光刻机设备将会在全球市场上占据一席之地，我们国家的科研技术将会变得越来越雄厚。

我国在光刻机技术方面的显著成就表明，我们在半导体领域又得以向前迈进了一大步。

这不仅展示了中国在高科技领域的实力，更为全球光刻机自主研发提供了榜样。只有将技术紧紧把握在自己手中，我们才不会被别人卡脖子或被迫顺从别人的意愿。

所以我们只管做好自己的事情发展好自己的国家就行了。

至于，美国这种患了红眼病的小人根本没必要在意他们的所谓制裁和打压，因为“一切反动派都是纸老虎”。相信随着我国的不断发展，将会实现各种技术上的突破，实现核心科技的自主研发。