JPS:紫外激光辅助刻划氟化石墨烯薄膜制备高速微超级电容器

这项工作介绍了通过使用低功率紫外线（UV）激光器刻划氟化石墨烯（FG）薄膜来可扩展地制造微型超级电容器。FG膜与紫外光的相互作用导致其转变为具有可调组成和结构的少层类石墨烯材料。在所得的石墨烯/FG混合物中，图案化的石墨烯部分充当电极，而介电FG区域充当隔膜/电解质存储。通过循环伏安法、恒电流充放电测量和阻抗谱研究了样品的电化学特性。最好的微型超级电容器在0.02 V s−1时的面电容为0.35 mF cm−2，功率密度为5580μW cm−2。在0.01–1 V s−1的扫描速率范围内，容量保持率为84%。

来源：Vitalii I. Sysoev , Dmitriy V. Gorodetskiy , Konstantin M. Popov , Anna A. Makarova , Lyubov G. Bulusheva , Alexander V. Okotrub，Fabrication of high-rate microsupercapacitors by ultraviolet laser-assisted scribing of fluorinated graphene films，Journal of Power Sources 557 (2023) 232549，https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2022.232549