3月22日,英伟达CEO黄仁勋在公司GTC2023大会上宣布推出光刻计算库cuLitho,该计算库是由英伟达联合台积电?ASML和新思科技研发四年实现,将计算光刻速度提升40倍以上,使得2nm及更先进芯片的生产成为可能,并且台积电将于今年6月份对cuLitho进行生产资格认证。
很恐怖哈,我们还在挣扎14nm生产工艺的时间,老美要搞出来2nm了,这差的不是一星半点,毫无疑问后面还得被老美”卡脖子“,下面就详细对比说说。
这么说吧,一台EUV光刻机大约相当于2个公交车大小,重量200吨,10万多个零件,4000多条线路,2公里长管线,需要用三架波音飞机才能运输。售价13亿人民币,运费及护理大约10亿人民币,安装调试需要半年,安装调试费上亿(虽然我国不缺钱但是不卖给我们)。
说两个最主要的:
目前看来中国芯研发任重道远,当前不仅EUV光刻机受制于老美,生产工艺技术上也部分依赖美国。因为各种因素,我国无法实现7nm芯片生产,而高端设备又必须依赖,进口芯片的金额达到了4400亿美元(占全球芯片80%),最最主要一旦被制裁花钱也不卖给你。。。这点就没办法了,希望早日突破技术封锁。
页面更新:2024-04-16
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