摊牌了！华为入局光刻机产业，外媒：这是要向欧美垄断“宣战”了

大家都知道，中国半导体产业链之所以不能生产高端芯片的主要原因，就是因为国内市场在制造光刻机方面的技术落后于人。这项关键技术被欧美等科技巨头长期垄断，而自从美国擅自修改了芯片规则后，华为等中企的芯片之路可谓是“举步维艰”。

尽管华为拥有海思这样芯片设计技术一流的团队，但是没有高端光刻机，华为海思只能是“望洋兴叹”。再加上台积电也跟随老美的脚步，不给华为代工麒麟系列芯片，从而导致华为手机业务一落千丈，至今都没有缓过来。

也正是因为如此，华为入局光刻机产业就成了大势所趋。可以说，如果华为真的研发出国产光刻机，那么中国芯片被“卡脖”的问题就能迎刃而解。

正所谓“理想很丰满，现实却很骨感”，目前国内最高端的光刻机仅可达到90nm，很难满足智能手机、电脑等行业的需求。虽然EUV光刻机可以生产7nm及以下制程的芯片，但是自主研发的难度也是相当大。要知道，EUV光刻机的零部件就多达10万个，需要全球5000多家供应商提供，甚至连ASML都曾嘲讽我们，就算把图纸给中国，我们也造不出先进的EUV光刻机。

不可否认，制造高端光刻机并不是一件容易的事情，单凭一个华为也很难搞出来。其实，早在2016年，华为就开始研发光刻机，而华为也不是孤军奋战，包括国望光学、科益虹源、华卓精科、上海微电子等国内顶尖芯片企业都在负重前行，并投入大量的资金和人才参与光刻机的技术研发。

让国人感到振奋的是，就在不久前，国家知识产权局公布了一项由华为发布的新专利，叫做“反射镜、光刻装置及其控制方法”。据悉，这项专利可以有效解决相关技术中因相干光形成固定的干涉图样而无法匀光的问题了，填补了国内半导体领域的空白。

此消息一出，就有国外媒体表示，华为这是要向欧美科技巨头的核心技术垄断正式“宣战”。要知道，EUV光刻机的关键核心技术掌握在荷兰ASML手中，而ASML又因生产线上采用了大量的美技术和设备，不得不听从老美的“建议”，禁止向中国市场出货先进的EUV光刻机，甚至连DUV光刻机的正常出货也遇到了“瓶颈”。

事实上，华为并不是只搞了光刻机，其正在全面出击攻克各种芯片难题。就比如华为还先后发布了芯片叠加技术和超导量子芯片专利，尤其是芯片叠加技术，可以通过叠加的方式，将两颗14nm芯片做成相当于7nm芯片性能的高端芯片。

不管怎么说，华为等中企的芯片之路还非常的漫长，我们和欧美等企业的科技实力仍然有不少的差距。但是国内一家家像华为这样的企业，燃起的星星之火，难道不值得期待吗？对此，你们怎么看？欢迎大家留言点赞分享。

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