ASML宣布重要消息，刘德音也没有料到，“打脸”这么快就来了

纵观全球芯片制造企业，台积电无疑是技术最先进、经验最丰富的那一个，而造成这种情况出现的主要原因，就是台积电拥有超过80台EUV光刻机，这一优势也是三星和英特尔不能比拟的。

要知道，全球仅有ASML一家企业可以量产EUV光刻机。根据公开的数据显示，截止到2021年，ASML一共才生产了142台EUV光刻机。由此我们不难看出，ASML和台积电是相辅相成的关系。

当然，它们之间也有很多相同的地方。比如ASML和台积电的大股东都是美国公司，生产线上都包含了很多美技术和零部件。也正是因为如此，在芯片规则被修改后，两者自由出货都遇到了麻烦。

尤其是台积电，在失去华为的芯片订单的同时，也失去了最重要的议价权，此前苹果拒绝台积电2023年涨价要求就是最好的证明。

原本以为台积电为了自由出货，会建设更多的“去美化”芯片生产线，但让人大跌眼镜的是，刘德音却公开表示，暂时不考虑建设非美技术生产线，台积电追求的是技术领先。

除此之外，在今年9月，刘德音还曾表示，如今半导体技术创新的关键，就是追求更极致的能效。他甚至还认为，半导体行业可以帮助解决世界面临的能源挑战。

按照刘德音的说法，台积电未来的发展方向就是研发3nm、2nm等更先进制程的芯片。而事实证明，台积电一味追求高性能芯片，只会让成本进一步飙升，并不会解决世界面临的能源挑战问题。

因为就在前不久，ASML首席技术官称，公司将在2023年向客户交付首台High-NA EUV光刻机，而High-NA将是最后一个NA，当前半导体光刻技术之路或已经走到了尽头。

那么问题来了，光刻机中的NA到底代表了什么？据了解，NA是光学镜头的一个重要指标，业内称之为数值孔径。简而言之，NA的大小可以决定光刻机能够达到的最高工艺节点。

现有的EUV光刻机系统可以提供0.33数值孔径透镜，而下一代High-NA EUV光刻机系统提供的这个数值是0.55。从精度上来看，后者确实比前者有所提高，但有一个非常严重的问题，那就是后者比前者更耗电，从1.5兆瓦增加到了2兆瓦。

要知道，一台EUV光刻机一天就要消耗3万度电。按照这个计算，High-NA EUV光刻机一台就需要耗4万度电。这对于台积电等芯片代工企业来说，确实不是一个好消息。

也就是说，如果ASML想要研发出比High-NA EUV光刻机精度更高的光刻机，那么就必须要解决环保、经济成本的问题。而事实上，ASML很难解决这个问题，要不然也不会说High-NA将是最后一个NA。

最主要的是，一台High-NA EUV光刻机的价格高达3亿美元，大约是现有EUV光刻机的三倍。再加上光刻胶等关键材料的价格持续上涨，以及耗电成本。这也意味着台积电的代工成本将再一次提升。

试问一下，在高性能芯片产能过剩的情况下，高通、苹果、英伟达等芯片巨头愿意为台积电埋单吗？答案显而易见，不会。

也正是因为如此，才说ASML宣布重要消息，刘德音也没有料到，“打脸”这么快就来了。对此，你们怎么看？欢迎大家留言点赞分享。

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