以光为“刀”！之江实验室研发出新装备 将推动光子芯片等器件研发

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9月上旬，之江实验室举行了成立以来最大规模的集中科研成果发布会，面向公众重磅发布了十余项科研成果，高通量激光直写光刻技术与装备就是其中之一。

以光为刀，在特殊材料上“雕刻”出设计好的图形，这个刻写过程需要的技术工艺则相当复杂。从类别上来看，光刻包括投影式曝光光刻和直写式光刻。

投影式曝光光刻是目前半导体芯片大批量制备较为常用的技术。在该技术路线下，芯片制备如同用底片洗照片，需将掩膜版上的图形转移到晶圆上。然而，这类“底片”制备工艺复杂、成本高、周期长。

与投影式曝光光刻不同，之江实验室研发的高通量纳米激光直写技术利用激光束，对基片表面的光刻胶材料进行曝光，显影后在抗蚀层表面形成浮雕轮廓。

通过技术提升，研究团队将激光直写光刻的精度提升至20nm~50nm尺度，大幅提升刻写速度。经过两年多的攻关，成功研制了多套多通道激光直写装备。

未来，团队将继续围绕装置刻写速度、精度、稳定性等方面开展科研攻关，将有力推动光子芯片、新型纳米感知等领域的器件研发。