EUV三大核心技术接连破冰，ASML的改口很及时

美国之所以敢毫无底线的对华为等中企作出芯片禁令的决定，是因为美基础技术涉及到了芯片制造所需的很多核心半导体设备，比如一直备受我们关注的EUV光刻机，尽管是由ASML生产的，但出口方面却要受到老美出口管制规则的约束。

为了实现芯片国产化，中科院等科研机构决定从自研EUV光刻机，并为此成立了专项技术攻关小组。

然而，ASML却泼来冷水，表示即便给我们图纸，我们也造不出来。

不仅ASML，就连吴汉明院士也是类似的观点：价值1亿美元的EUV设备，所用到的精密零件超过了10万个，全球供应商超过了5千家，不仅有美国的光源，还有德国的镜头、瑞士的机床等等，是全球智慧的结晶，我们想凭一己之力来制造，是不现实的。

不可否认EUV设备的复杂，毕竟它被誉为是工业皇冠上的明珠，但是在老美的格外“关照”下，我国芯片产业没有知难而退的余地，何况，再尖端的技术也是人造的，而非神造的。

因此，由难到易针对性地逐一突破EUV设备的三大核心技术“光源、双工件台系统、镜头”，从而实现该设备的国产化，并非没有可能。

果然，清华大学唐传祥教授带领的科研团队，率先打破了EUV垄断的僵局，探索出的新型粒子加速器“稳态微聚束”利用SSMB工作原理，可以从太赫兹覆盖到极紫外光波段，而极紫外光正是EUV工作的光源。

双工件台系统的垄断则是被北京华科给打破了，是全球继ASML之后，第二家掌握该技术的企业。

近日，有关EUV光学镜头方面的研发也传出了好消息。

据央视报道，中科院研发出了国内首台高能源同步辐射光源，这是全球最亮的第四代光源之一，该设备的安装工程已完成了70%以上，落地应用指日可待。

至此，EUV三大核心技术均已实现突破，该设备的国产化只剩下那些零零碎碎的精密零件以及难度系数并不算高的其他技术，要知道我国是全球最大的制造市场，生产EUV的这些零件不是什么大问题。

或许正如林毅夫教授所说：三年时间我们就将拥有属于自己的高精度光刻机。届时，我们必然会在全球光刻市场大展拳脚。

值得强调的是，我们在不断破冰EUV核心技术的过程中，ASML对我们的态度发生了很大的转变，由起初的不看好、泼冷水，变成了如今的求合作、求发展。

不得不说，ASML的改口很及时，不仅得到了国内市场的好感，而且从去年到现在先后出口给了我国市场总计57台光刻机，还在第一季度与中芯国际签订了价值12亿美元的光刻进口续约合同。

ASML的这一系列举动成功与我国市场建立起了紧密的联系，保证了它未来不会被排除在我国光刻市场之外，更重要的是，即便是我们的EUV国产化正式落地且老美也解开了相应的限制，ASML的EUV设备或仍会被国内企业采购，其在光刻市场的地位也不会出现大幅的下滑。