能造光刻机的何止ASML公司，中国半导体巨头，占据了国内80%市场

目前各个国家之间的竞争，已经转移到了科技上面，现如今已经进入到一个数字化时代，芯片的重要性就不用多说了，拥有什么样的芯片技术，直接决定了你的科技所能达到的高度，而目前中国在芯片领域还是相对薄弱的。整个芯片的制造成型主要分为三个部分，芯片设计研发、芯片制造成型以及芯片测试封装，而目前在芯片研发、设计以及测试封装上面，我们都能够达到国际顶尖水平，而唯一缺乏的就是芯片尖端的制程工艺。

中国在芯片制造领域落后于其它国家，其主要原因就在于我们缺少了最为先进的光刻机，作为国内代工巨头中芯国际，也仅能实现14nm工艺的量产，过分依赖于国外的技术也让我们走得举步维艰。前两年中芯国际急需升级制程工艺，向荷兰的ASML公司重金求购了顶级的7nm极紫外EUV光刻机，受到美国的相关限制，经过两年多的时间，至今没有任何出货的消息，过分依赖于国外的技术也让我们显得很被动，要想突破技术的屏障，就要研发属于自己的国产光刻机。

难道除了ASML公司之外，就没有人能够生产光刻机了吗？

目前国内芯片制造企业，所使用的顶级光刻机也都是来源于ASML公司，这样才能够满足目前的芯片生产工艺。实际上除了荷兰这一家公司，中国和日本都能生产出光刻机，只是没有办法达到ASML公司的高精度。

而作为国内的优秀半导体企业上海微电子，通过自主研发，目前已经攻克了90nm制程工艺的光刻技术，并且已经实现了量产，采用的光源技术是193nm ArF，可以实现低端市场90nm芯片的量产，在整个国内低端市场80%市场份额，都上海微电子占领，目前更为先进的28nm光刻机也已经研发成功，已经开始投产，预计将在2021年可以正式投入商用。

虽然上海微电子所掌握的技术，和荷兰的ASML公司还是有本质区别的，但是这对于中国整个半导体领域来说，却是一个好消息，因为这项技术是由我们国内的企业自主创新所研发出来的，并没有大量采用ASML公司的专利，在很多技术上我们都选择了另辟蹊径，有了这样的成就，这又将掀起另外一波的半导体领域国产替代计划，上海微电子未来的发展潜力是无限的。

其实除了上海微电子以及ASML，日本的两大巨头佳能以及尼康也都有能力生产光刻机，并且他们是最早拥有光刻机技术的，但是由于种种原因并没有受到重用，导致了他们并没有进行深入去研发，目前在技术上也已经不行了。而荷兰的ASML公司算是一个后起之秀，集齐了欧美国家最为先进的技术，最终在光刻机领域也迎来了高光时刻，成功逆袭了日本的两大巨头，而目前日本的这两家企业也仅能够生产低端光刻机。

还有一个好消息就是，目前芯片制造领域也即将达到摩尔定律的极限，如果没有更为先进的技术出现，那么芯片领域最为尖端的工艺也只能达到2nm，这对于我们来说毫无疑问是一个好消息，也就意味着我们有更多的时间去突破相关的技术，在未来一段时间里，国产尖端光刻机也将走向全世界，对此你们有什么看法？