张忠谋：举全国之力也造不出芯片。林毅夫：三年就可以攻克光刻机

伴随着中国的芯片安全问题，光刻机也成为业界焦点。它单价售价超1亿美元，依然供不应求，被认为是摩尔定律当下的重要推手，胜似芯片公司的“印钞机”。它集各学科之大成，设备重达几十吨，需要多台波音飞机运输，被认为是半导体工业皇冠上的明珠。它虽是工业设备、商业产品，但其命运从未摆脱大国之间的竞合博弈。摩尔定律攻艰2nm 的物理极限的当下，叠加复杂国际关系，光刻机也成为2021年应该了解的行业之一。作为全球光刻机最为前沿的公司，荷兰ASML公司如是说——“如果我们交不出EUV光刻机，摩尔定律就会从此停止”。

晶体管密度

过去五十多年，半导体行业一直遵循着摩尔定律这一经济规律：集成电路上可容纳的元器件的数，每隔18个月就会增加一倍。这意味着每隔18个月，为了实现芯片性能提升一倍以上，芯片的制程就会缩小至少一倍。事实上，在更早的上世纪七八十年代，诸如尼康、佳能等光学厂商、Intel等芯片厂商都做出过光刻机。一般来说，芯片的性能受晶体管密度影响，同样面积下晶体管越多，即晶体管线宽越小，芯片性能越强。我们日常听到的几纳米工艺，其中的纳米即代表的相应光刻工艺能加工出的晶体管线宽。因此，可以说，光刻机性能的先进性，就在一定程度上，代表了芯片性能的先进性。

每一次芯片制程提升有多难？ 1nm大约相当于头发直径的五万分之一。要达到这样的精度提升，其难度不难想象。名家观察对于中国芯片技术的开发，台积电创始人张忠谋表示，大陆举全国之力也造不出高端芯片；而荷兰光刻机巨头ASML则说，就是给中国图纸，中国都造不出光刻机，这样的观点一出，立即引起了中国网友们的热议。无论张忠谋先生的看法是否绝对，国人都会感到很扎心。对此林毅夫院士回应三年就可以攻克光刻机。

对于中国芯片技术的开发，也许业内人士和普通民众的看法大相径庭。张忠谋先生和荷兰光刻机巨头表达出这样的观点，有两方面的原因：首先是中国缺少在芯片半导体，以及光刻机方面的人才培养，没有足够的人才就无法冲击高端；另一方面是制造光刻机的高端零件被国外企业垄断，想买都买不到，更别提制造了。由于美国掌握着世界顶级芯片技术的众多专利，中国想要绕开研究出替代芯片技术难度很大，之前华为的大多数芯片都是向台积电订制的，在美国禁令下，台积电突然断供华为实属无奈之举。当时比亚迪的总裁王传福就回应了一句话：“芯片是人造的，不是神造的”。他认为别的国家的人能造，中国人也一样能造，林毅夫院士也表示中国三年就可以攻克光刻机，对此，你怎么看？