中微公司获得实用新型专利授权:“一种真空吸盘、基座组件和薄膜沉积装置”

证券之星消息,根据天眼查APP数据显示中微公司(688012)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种真空吸盘、基座组件和薄膜沉积装置”,专利申请号为CN202520892567.8,授权日为2026年6月12日。

专利摘要:一种真空吸盘、基座组件和薄膜沉积装置,真空吸盘包含:用于承载衬底的承载面,所述承载面上开设有气槽,所述气槽上设有真空吸孔,所述真空吸孔连通真空源,以通过所述气槽吸附所述衬底;用于容纳升降顶针的多个升降销孔,所述升降销孔和所述气槽在所述承载面上至少部分重合,以使所述气槽抽走所述升降销孔内的滞留气体。本实用新型提供的一种真空吸盘、基座组件和薄膜沉积装置中,用于容纳升降销通过的升降销孔和气槽在承载面上至少部分重合,升降销孔内聚集的气体会在气槽中周向扩散并与衬底背面接触,有助于增加衬底周向温度的分布均匀性。

今年以来中微公司新获得专利授权76个,较去年同期增加了2.7%。结合公司2025年年报财务数据,2025年公司在研发方面投入了24.75亿元,同比增74.61%。

通过天眼查大数据分析,中微半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了30家企业,参与招投标项目84次;财产线索方面有商标信息112条,专利信息1685条,著作权信息13条;此外企业还拥有行政许可88个。

数据来源:天眼查APP

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更新时间:2026-06-12

标签:科技   基座   吸盘   薄膜   真空   组件   装置   专利   公司   衬底   天眼   面上

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