中国造不出光刻机？中科大副院长：美国造不出，中国永远都不可能

2024年9月，中科大前副院长朱士尧一句“美国造不出，中国永远都不可能”，把光刻机话题炸上热搜。

有人骂他长他人志气灭自己威风，有人说他戳破幻想。

也有人静下心来琢磨，觉得这话不是唱衰，恰恰是把半导体产业最核心的真相，赤裸裸地摆到了大家面前。

其实朱士尧副院长说这句话，并不是否定中国的研发能力，而是想告诉大家一个被忽略的事实。

顶级光刻机从来不是一个国家能闭门造出来的，它是全球顶尖技术拧成的一股绳，缺了任何一环都不行，盲目乐观或者妄自菲薄，都解决不了问题。

很多人一听到“造不出光刻机”就着急，心里难免犯嘀咕。

咱们国家连两弹一星都能从零搞出来，能送航天员上太空，能造航母、造高铁，怎么一台小小的光刻机就卡住了脖子？

其实咱们说的“造不出”，特指最顶尖的那种光刻机，不是所有光刻机。

普通的光刻机，咱们早就能造出来了，中低端的也能自给自足，日常用的很多电子产品，里面的芯片，用咱们自己造的光刻机就能生产。

但能造7纳米以下高端芯片的顶级光刻机，目前全球只有一家能造，连美国、日本、德国这些科技强国，单独拿出来也造不出来，更别说咱们了。

可能有人会问，不就是一台机器吗，怎么能难住全世界？

一台顶级光刻机，里面的精密零部件就超过10万个，而且这些零部件不是一个国家能生产的，要靠全球5000多家供应商一起配合，少一家都不行。

这不是简单的把零件拼起来，每个零件都要做到纳米级的精度，差一点点，整个机器就废了，根本没法用。

就拿最关键的光学镜头来说，全世界只有一家公司能做，这种镜头的抛光精度，误差不能超过0.3纳米。

这个精度相当于从北京到上海的距离，铁轨的起伏不能超过1毫米，这种技术不是几年、十几年就能积累出来的，人家已经研究了上百年，底蕴摆在那里。

除了光学镜头，还有光源系统，顶级光刻机需要一种特殊的极紫外光，这种光的波长只有13.5纳米，全球只有两家公司能造，一家在美国，一家在日本。

这种光源的要求极高，功率要足够大，稳定性还要绝对好，相当于造一个微型的、可控的“人造小太阳”，难度比咱们平时见到的任何工业设备都大。

而且这还只是两个核心部件，除此之外，还有精密工作台、真空系统、控制系统、特种材料等等，每一样都要达到全球顶尖水平，少一样，这台机器就造不出来。

美国作为全球科技强国，自己也造不出顶级光刻机。

它有顶级的光源技术，也有一部分控制系统的技术，但没有能达到要求的光学镜头。

德国能造出最顶尖的光学镜头，却没有顶级的光源技术，也没有整合所有部件的能力。

日本有不错的特种材料和光学基础，同样凑不齐所有的核心部件。

现在全球能造出顶级光刻机的，只有荷兰的一家公司。

而这家公司能造出来，也不是荷兰自己有多厉害，而是它整合了美国、德国、日本、瑞典等几十个国家的顶级技术，把全世界最厉害的零件都凑到一起，才造出了这台被称为“工业皇冠上的明珠”的机器。

所以中科大前副院长说的话，不是灭自己威风，是客观事实。

再说说咱们国内光刻机的真实情况，咱们现在最拿得出手的，就是上海一家公司量产的28纳米光刻机，这台机器已经能稳定用在芯片生产线上，满足咱们国内绝大多数中低端芯片的需求。

比如家里的空调、冰箱、洗衣机，汽车上的普通电子元件，还有平时用的普通手机、平板电脑，里面的芯片，用这台光刻机就能生产，完全不用依赖进口，这是实打实的进步，是咱们一步一个拼出来的成果。

但咱们也要正视差距，要是想造高端手机、人工智能设备、高端算力服务器需要的7纳米、5纳米芯片，就必须用顶级光刻机。

这一块，咱们确实还没有突破，还在研发攻关的阶段，离量产还有很长的路要走。

很多人觉得，既然咱们能造出28纳米的，再努努力，很快就能造出顶级的，其实不是这么回事，两者之间的差距，不是一点点，而是跨代的差距，就像自行车和汽车的区别，不是多蹬几脚就能追上的。

为啥咱们突破顶级光刻机这么难？一方面是西方的技术封锁，美国牵头，联合荷兰、日本等国家，把顶级光刻机和相关的核心零部件，都对咱们实行禁运，不光不让咱们买机器，连相关的技术交流都不让有，想花钱学技术都没地方学，相当于把咱们关在了门外。

另一方面，光刻机的研发难度，真的比两弹一星还要大。

两弹一星是集中全国的力量，攻克单一的核心技术难题，有明确的目标和路径，只要咬牙坚持，就能有所突破。

但光刻机是一个庞大的系统工程，涉及光学、材料、精密机械、电子、软件、化学等几十个学科，每个学科都要做到全球顶尖，还要把这些不同领域的技术完美整合起来，不能有任何偏差。

更关键的是，这需要几十年的产业链积累，需要成千上万的工程师持续攻关，不是靠砸钱、靠集中力量就能短期搞定的。

比如一个精密零件，可能需要反复试验上百次、上千次，才能达到要求；一种特种材料，可能需要研发十几年，才能满足光刻机的使用标准。

而且咱们在很多基础学科上，本身就有差距，想要补齐这些短板，需要时间，需要耐心，急不来。

很多人会问，既然这么难，咱们是不是永远都造不出顶级光刻机了？当然不是。

中科大前副院长说那句话，不是泼冷水，而是提醒咱们，别盲目自大，别想着走捷径、弯道超车，更别想着闭门造车，要正视差距，一步一个脚印地来。

咱们现在的策略其实很清晰：先把能做的做好，把28纳米光刻机的产能、良率提上去，把中低端芯片的产业链牢牢握在自己手里，保证咱们的基本盘不受制于人，不用因为别人卡脖子，就影响咱们的日常生活和工业生产。

然后，咱们再一步步啃硬骨头，从光源、镜头、精密工作台这些核心零部件开始，逐个突破，慢慢补齐产业链的短板。

这些年，咱们国家在半导体领域的投入和进步，大家都有目共睹。

从光刻胶、蚀刻机，到封装测试、芯片设计，很多环节都在慢慢摆脱对国外的依赖，都有了自己的技术和产品。

上海那家公司的28纳米光刻机已经落地投产，国内多家科研机构和企业，在顶级光刻机相关的技术上，也有了不少专利和实验突破，只是这些突破还需要时间，才能转化为量产能力。

这个过程注定是漫长的，可能要5年、10年甚至更久，期间可能会遇到各种各样的困难，可能会受到更多的技术封锁，但只要方向对、不放弃，一步一个脚印，总有一天，咱们能把核心技术掌握在自己手里，能造出属于中国自己的顶级光刻机。

最后再回到那句话，它不是唱衰，而是给咱们提了个醒。

高科技产业从来没有捷径，顶级技术从来不是一个国家的独角戏。承认差距、正视现实，不盲目乐观、不妄自菲薄，踏踏实实补齐短板，在合规范围内整合全球资源，才是咱们突破光刻机困境、实现芯片自主的唯一出路。

咱们不用急，时间站在咱们这边，只要坚持下去，总有一天能打破封锁，实现自主可控。