ASML指责中国研发光刻机后,哈工大再获突破！美媒：还怎么制裁？

从2024年初起，荷兰政府在美方压力下，取消部分对华出口许可，导致阿斯麦无法供应最尖端极紫外光刻机。

这类措施扩展到深紫外设备维护和服务，影响中国现有生产线稳定性。中国科研机构面对封锁，转向自主路径，投入大量资源开发本土技术。哈工大等高校在精密光学和材料领域积累经验，推动从依赖进口向自给自足转型。

阿斯麦高管在2024年底公开表示，中国自行研制光刻机将干扰全球供应链，可能引发产业链分裂。公司垄断极紫外技术，通过激光产生等离子体实现13.5纳米波长曝光，支持5纳米以下制程。其设备依赖复杂光学系统和国际专利，功率稳定在数百瓦级别。

相比之下，中国早期依赖进口深紫外机型，适用于14纳米工艺，但封锁后转向本土研发。哈工大团队2025年初公布基于放电等离子体的极紫外光源原型，与阿斯麦激光方法不同，该路径简化结构，体积缩小，便于集成。

这一光源采用高压放电激发锡蒸汽，输出波长与阿斯麦相当，但能量利用率提高，通过优化电极阵列减少消耗。早期中国研究功率限于数十瓦，稳定性不足，此次提升至120瓦以上，波动率降至1%以内。

团队从材料耐热性入手，使用国产陶瓷电极，结合算法实时调整参数，避免光束不均。相比2024年深紫外成果，这标志向极紫外跃进，适用于7纳米制程测试。阿斯麦依赖全球供应链，中国强调本土材料供应链，降低外部风险。

北京另一企业开发双工件台，支持晶圆纳米级定位。与单工件设计相比，双台并行缩短切换时间，提升效率15%。

该平台采用磁悬浮驱动，材料转向国产碳纤维，耐磨性优于进口轴承。2023年原型精度微米级，2024年优化后达0.5纳米误差，通过振动模拟软件迭代结构。

哈工大光源与此结合，在试产线上实现良率75%，高于早期50%。这些进展源于国家项目支持，哈工大作为重点院校，多年精密仪器积累，提供技术支撑。

阿斯麦指责源于市场担忧，公司对华销售额曾占总营收近一半，但管制后转向其他区域。中国企业自2019年华为断供后，组建跨领域团队，加大投入。

哈工大成果获2025年省级转化奖，加速从实验室到应用。美媒如彭博社报道，中国突破尽管管制，证明自力更生有效。阿斯麦设备需巨额维护，中国原型模块化，便于升级，功率通过叠加模块迭代。

对比两者，阿斯麦系统集成光源镜组，中国从核心部件切入，逐步扩展。放电路径初始效率低，但潜力大，避免激光气体污染。哈工大团队数百次实验，优化电压曲线，光束纯度达99%。2025年1月公布后，继续引入算法预测等离子行为，缩短周期。

中国推进渐进式，从2023年小批量深紫外，到2024年集成双台，2025年极紫外原型。相比阿斯麦巨额投资，中国分步验证，控制成本。哈工大与上海企业合作，测试曝光精度，每小时处理50片晶圆，虽低于阿斯麦，但通过软件优化提升。纽约时报称，中国改变规则，制裁需调整。

2019年中国光刻机限于28纳米，如今向5纳米推进。哈工大技术能源效率高，放电耗电少20%，环保突出。更新计划包括功率叠加，目标2026年工业级。阿斯麦指责后，中国以行动回应，美媒显示制裁刺激创新。

双工件台从单轴到多轴，精度跃升源于传感器升级，使用国产振荡器。团队避开专利，开发算法。美媒感叹，无计可施。新凯来利用光源，在东莞实现7纳米试产，设备体积小，适合中小厂。

中国生态构建注重，哈工大集成光源到整机，测试兼容大气操作，简化维护。不同于阿斯麦商业路径，国家支持加速转化。2025年中，样机在设施测试，稳定输出支持民用领域。

阿斯麦垄断靠专利，中国创新路径。放电稳定性优于早期激光，避免污染。团队从模拟到原型，迭代确保工业适用。美媒如国家利益报道，制裁适得其反，推动中国自研。

进入2025年下半年，光刻机试产加速。10月报道，本土深紫外机型集成哈工大光源，良率超80%。到11月6日，设施小批量阶段，优化功率波动，产业链韧性增强，削弱管制影响。

全球格局变化，美国报告承认出口管制有限，中国囤积设备加速自研。科研人才持续投入，推动国防民用应用，提升竞争力。未来几年，中国高端光刻机量产支撑芯片独立。

阿斯麦2025年三季度报告显示，中国需求下降，但本土创新填补空白。美媒如亚洲时报指出，管制加速中国赶超，差距缩小至5年以内。中国路径注重实用，绕开部分限制，实现技术迭代。

哈工大突破代表高校贡献，精密光学积累支撑国家战略。

中国自研避免依赖，构建完整链条。从光源到平台，逐步成熟。

未来，中国半导体自给率上升，全球影响力增强。

参考资料

对华半导体管制升级 “从1到100”国产替代在路上 东方财富网