半导体制造中这座名为“光刻胶”的隐形堡垒,正被中国公司一寸寸攻破。
研究机构TECHCET预测,2025年全球光刻材料收入将增长7%达50.6亿美元,其中EUV光刻胶增速更为惊人——预计同比增长30%。在半导体产业链自主可控的迫切需求下,国产光刻胶正迎来历史性机遇。
2025年,光刻胶行业呈现出政策驱动、技术分层突破、产业链协同深化三大特征。
随着半导体市场逐步复苏,全球光刻材料市场正重回增长轨道。TECHCET数据显示,2024年光刻材料收入已温和增长1.6%,达到47.4亿美元。
这一增长主要由先进光刻胶需求大幅增长驱动,特别是EUV光刻胶表现最为突出,同比增长20%。
中国市场已成为全球光刻胶竞争的主战场。在国产替代浪潮下,中国企业在ArF/KrF等高端光刻胶领域进展显著,国产化率已突破30%。
同时,配套材料如显影液、电子特气也实现了全链条自主可控。
设备端的高精度定位、光学元件技术填补了空白,封装与先进制程需求则催生了PSPI、纳米分散体等创新材料。
未来行业竞争将聚焦EUV光刻胶研发、车规级认证壁垒及设备-材料一体化生态构建。
从整体竞争格局看,中国光刻胶企业已形成清晰的三大梯队。
第一梯队以南大光电、彤程新材为代表,主攻ArF、KrF等高端光刻胶,并已实现量产和批量供应。
第二梯队包括上海新阳、晶瑞电材等,覆盖g/i线、KrF光刻胶,并逐步向ArF光刻胶延伸。
第三梯队则主要是容大感光、广信材料等企业,专注于PCB光刻胶等中低端市场,并逐步向半导体领域拓展。
根据2025年中国光刻胶行业企业核心竞争力排名,前五强企业各具特色:
南大光电在高端光刻胶领域的地位堪称“国之重器”。作为国内唯一实现28nm制程ArF光刻胶量产的企业,其技术突破意味着中国半导体材料在最高端的芯片制造领域有了自己的解决方案。
截至2025年,南大光电的ArF光刻胶产能已达到500吨,客户覆盖了中芯国际、长江存储等国内头部晶圆厂,国产替代率突破30%。
在半导体材料领域,产品的验证周期长、门槛高,一旦通过验证就会形成深厚的客户黏性。南大光电凭借先发优势,已在国内主要晶圆厂站稳脚跟,构建了坚实的企业护城河。
彤程新材的崛起路径为中国半导体材料企业提供了一个范本——通过精准并购与产业链垂直整合,快速切入高端光刻胶领域。
该公司最初以橡胶助剂业务为基本盘,2025年上半年这部分业务营收占比超过70%。
通过收购北京科华和北旭电子,彤程新材直接整合了国内最优质的半导体光刻胶和面板光刻胶资产。
目前,彤程新材对北京科华的持股比例已提升至96.33%,显示了其全力发展半导体光刻胶的决心。
在技术层面,彤程新材旗下的北京科华是国内极少数掌握8-12英寸集成电路光刻胶技术并拥有自主知识产权的企业。
它早在2014年就推出了国内首款KrF光刻胶,并于2017年进入12英寸产线。
2024年,彤程新材半导体光刻胶业务实现营业收入3.03亿元,同比大增50.43%。
其中,化学放大I线光刻胶呈现高增长态势,同比增长185%;KrF光刻胶同比增长69%;ArF光刻胶已完成客户验证并逐步实现量产及营收。
上海新阳采取的是全品类覆盖策略,产品线涵盖g/i线、KrF、ArF全品类光刻胶。
更为重要的是,公司自研的193nm ArF光刻胶已通过验证,并配套显影液、蚀刻液形成“材料包”技术协同优势。
在光刻胶行业,能够提供一站式解决方案的企业往往更具客户黏性。上海新阳正是通过这种协同优势,在不断扩大的国产替代浪潮中赢得了一席之地。
晶瑞电材通过子公司苏州瑞红在g/i线光刻胶市场占据了30%的国内市场份额,在此基础上,公司正积极向半导体级光刻胶延伸。
截至2025年,晶瑞电材新增5万吨半导体级光刻胶项目已投产,同时通过车规级认证构筑壁垒。
在半导体材料领域,车规级产品认证门槛极高,但一旦通过就会形成很强的客户黏性,这对于晶瑞电材未来的市场竞争力至关重要。
光刻胶产业的发展也带动了上游材料与设备的机会,光引发剂作为光刻胶的核心原材料,价格持续走高。
2025年8月,光引发剂(TPO)价格再度上调,8月以来累计涨幅近15%,今年以来累计上涨26.67%。
这一波光引发剂价格上涨,主要源于供给端收缩与需求端增长的双重驱动。
在供给端,宁夏沃凯珑因安全环保问题停产,扬帆新材子公司火灾事故导致停产整顿,行业产能受限。
在需求端,下游新兴领域如PCB、3D打印等需求持续增长。
A股市场参与光引发剂生产的上市公司中,久日新材、强力新材、扬帆新材为国内龙头。
2024年,这三家企业光引发剂产量分别为1.99万吨、0.73万吨、0.40万吨,占行业总产量的52.73%。
在设备领域,芯源微的前道涂胶显影设备打破了东京电子的垄断,可适配KrF/ArF光刻胶工艺;
奥普光电则掌握了绝对式光栅尺技术,打破了海外垄断,应用于光刻机双工件台系统。
展望光刻胶产业未来,两大投资主线清晰可见:
一是国产替代持续推进。到2025年,国内本土企业在KrF光刻胶市场占有率将达35%,ArF光刻胶国产化率突破20%,EUV光刻胶进入中试验证阶段。
二是技术迭代不断加速。行业正在向EUV光刻胶、干法光刻胶沉积和纳米压印光刻等创新技术方向发展。
对于投资者而言,可重点关注三类企业:
从橡胶助剂到光刻胶,彤程新材的转型路径印证了中国半导体材料企业的崛起模式:以传统化工为基础,通过精准并购获取尖端技术,再利用产业链优势进行垂直整合。
随着半导体产业持续复苏,国家大基金三期3440亿元资金加大对上游设备材料的扶持,光刻胶作为“电子化学品产业皇冠上的明珠”,正迎来前所未有的发展机遇。
那些在技术研发上坚持不懈、在产业链布局上先行一步的企业,有望在这轮国产替代浪潮中脱颖而出。
更新时间:2025-10-20
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