全球90%都由日本生产，一旦断供我国怎么办？为何别国不去生产

作为最大的工业国，我们几乎能生产世界上所有的工业品，遗憾的是作为追赶者，一些领域还是被国外牢牢垄断。

特别是在芯片上面，我们每年要花大笔的钱去进口，别人还不一定肯卖，虽说随着国外制裁，国内芯片产业发展迅速，就连光刻机也有了些进展。

看起来形势很好，可该产业中一种关键性材料我们却要完全依赖日本，一旦被日本断供我国该怎样应对？

光刻胶，这个在普通人眼中几乎毫无存在感的化学材料，却是造芯片的关键材料。没有它，再先进的光刻机也就是一堆“废铁”。

2021年时，中国不少半导体公司收到了一封让他们坐立不安的邮件——日本信越化学宣布，由于“产能不足”，将暂停向部分中国客户供应光刻胶。

这消息一出，一些芯片工厂直接面临停产危机，“这不是产能问题，这是政治问题。”一位中芯国际高管私下表示。

果然，仅仅几个月后，日本另外两家光刻胶巨头也相继调整了对华供应策略，部分高端型号的光刻胶开始“限量供应”。

中国芯片产业，这回是真切地感受到了“断胶”的威胁。

事实上，我们也不是第一个被日本“断胶”威胁的国家，早在2019年日本就对韩国光刻胶断供过。

当时，韩国80%的光刻胶依赖日本进口，断供导致三星等企业的半导体生产线面临停摆，芯片产量大幅下降，经济损失惨重。

这就让人感到奇怪了，为何日本能够频繁对别的国家挥舞“断胶”大棒？日本企业不卖了去找别的国家企业不行吗？

其实还真不行，某种意义上日企已经垄断了光刻胶，整个的市场份额日本就占了八成，利润大的高端产品更是达到九成。

而之所以光刻胶能被日本独占，别国不去生产，主要有两方面的原因。

一方面，原本光刻胶技术起源于美国，但日企在上世纪八、九十年代抓住机遇，在这领域投入了大笔研发资金，迅速在这一领域反超了美国。

后来随着光刻胶技术的发展，日企渐渐的就积累超过2万项相关专利，筑起了一道高高的技术壁垒。

其他国家想要涉足这一领域，就要面临日本的技术封锁，而想要绕过这些专利短期内很难实现。

另一方面，光刻胶虽说在芯片制造中很重要，可是相对半导体产业来说，其规模就比较小了，和芯片设计、制造这些环节比起来利润更是有限。

相反，想要研发一款新型光刻胶，企业往往需要投入数亿美元，研发周期也是长达数年，换句话说这不是短期就能见效的。

相比之下，直接从日本进口成熟的产品，成本更低、效率更高，因此在权衡利弊后，其他国家都选择了依赖日本的供应，而不是自主研发。

面对光刻胶被“卡脖子”的风险，我们自然不可能选择坐以待毙，很多企业和科研机构已经在寻求突破。

总体上来说，我们在光刻胶上的国产化走的是循序渐进的路子，我们首先瞄准的是低端光刻胶市场。

虽说我国光刻胶产业起步晚，但国内企业在生产成本上是有优势的，所以近些年来国内企业在低端市场的份额一直在扩大，反而是日企在逐步放弃低端市场。

现在摆在我们面前的难题主要是高端光刻胶，毕竟高级制程的芯片离不开它，而这也是光刻胶中最赚钱的部分，我们在这方面面临的挑战也是最多的。

绕不开的就是生产光刻胶的原材料，尴尬的是不光光刻胶需要进口，生产它所需的高纯度树脂、光敏剂等关键材料也依赖进口。

而且研发一款高端光刻胶测试是必不可少的，而测试过程需要用到EUV光刻机，这类设备我们早就被美国制裁，很难弄到。

为了突破这些困境，我们在国家层面上，已经把光刻胶已被列入“十四五”重点攻关项目，提供了很多的政策和资金支持。

而国内的很多企业也看到了这里的商机，国产替代就是最大的机遇，一些有实力的化工企业开始向半导体材料方面发力。

在科研层面上，中科院、复旦大学等机构也在大力培养人才，毕竟光刻胶研发需要既懂化学又懂半导体工艺的复合型人才，有了人才事也就好办了。

面前我们已经在高端光刻胶取得了一些突破，像是南大光电就研发了多款ArF光刻胶，有产品已经通过中芯国际的验证，可用于28nm制程芯片的生产。

北京科华已经成功实现了KrF光刻胶的量产，并开始向长江存储等企业供货，中科院也正在攻关EUV光刻胶技术，目前已完成实验室阶段的验证工作。

这些进展令人鼓舞，但想要实现完全自主可控我们还有很长的路要走，从国家层面来看，光刻胶的国产化替代不仅是技术问题，更是关乎国家产业安全的战略问题。

日本作为美国最“忠实”的盟友，一直是和美国亦步亦趋，随着我们和美国的竞争日益激烈，很难保证日本不会在这方面对我们下手。

要想让国产芯片真正站起来，光刻胶这种关键材料是必须要突破的，而我们也没必要被日本的垄断优势吓倒。

虽然目前日本企业的优势依然明显，但历史经验表明，没有哪个技术壁垒是不可突破的，就像日本能够从美国手上拿下一样，我们也完全能在光刻胶领域实现后来居上！