2025年8月1日，中国第一台步进式纳米压印光刻设备完成交付。

这台设备不靠激光，不用镜头，靠一块高精度模板，把芯片图案直接“压”到硅片上，压出的线条宽度小于10纳米。设备全套系统，包括喷胶、控制软件、压印胶水，全是国产。

主导研发的是璞璘科技，交付对象是国内芯片制造企业。这不是演示机，是能上生产线的实机。

此前这类设备长期被日本等国外企业垄断，这次交付，意味着中国第一次将10纳米级纳米压印设备送进了实用阶段，光刻技术迎来真正国产化起点。

从试验台到生产线，10纳米以下国产设备交付现场纪实

2025年8月1日，地点：上海。设备：PL-SR型纳米压印光刻机。生产方：璞璘科技。交付现场没有仪式，有的是操作员当场开机、运行、验收。

这不是原型机。它完成了四项实际操作：供电启动、芯片压印、材料匹配、软件联调。厂方确认设备可运行、能压出图案、压出的产品能用。于是签字，进厂。这台设备压出来的图案，最窄线宽＜10nm，残余层厚度＜10nm，误差控制在2nm以内。

这机器做的事，说白了，就是把一块已经有图案的模板，压在芯片材料上，让图案留下。不像ASML那种靠光线“刻”电路，它是直接“压”上去的。

模板用的是电子束光刻打的，图案非常小，图案边缘非常整齐，用喷墨系统把胶水喷在硅片上，再用模板压下去，压出图案，拿去后段工艺继续处理。

和传统光刻比，这设备有三大特点：

• 第一，不需要光，不需要镜头，也不需要极紫外线激光，省下来的，是整套ASML体系的费用。
• 第二，在空气环境下就能工作，不用抽真空。厂房要求低，设备维护也省事。
• 第三，用模板来压，图案一致性高。一个模板可以反复用上千次。

这设备不是一两年赶出来的。从2022年立项，2024年在江苏宿迁完成中试生产线测试，测试产品包括硅光、微显示、先进封装三个方向，结果都符合要求。到2025年8月完成交付，整个研发周期走了三年。

交付这天，其实不是新闻，是阶段终点。

新闻在于——这是中国第一次把一台真正能压10纳米以下图案的光刻机，实打实送进了芯片厂。没有外国部件，没有演示性质，客户要的就是这台，用的也是这台。

国内过去在这个领域有几台样机，但都停在实验室。这一次，是实用。这台设备，从供胶、到模板、到控制软件，再到胶水配方，全是国产。这在芯片制造环节，是一次整链闭环。

追上谁，超越谁？国产设备的参数实测与国际对比

这台设备的直接对标，是日本佳能的FPA-1200NZ2C。那台设备线宽能力14nm，是当前公开信息里纳米压印领域的标杆。中国PL-SR设备压出了＜10nm，参数上首次超过。

再说全球主流光刻格局：目前EUV设备只有ASML一家能造，佳能、尼康都在深紫外（DUV）方向做延伸。纳米压印这一类，佳能有，尼康停滞，ASML没有。

但这些公司压的是啥？更多是中低端场景，比如AR显示、光电子器件。而中国这台设备交付给的，是“特色芯片客户”。什么意思？不是AR，不是科研，而是正儿八经的芯片线。第一次把纳米压印送上了芯片生产场景，这是参数之外更关键的一步。

为什么国外企业没把压印推进到这一步？一是路线保守。EUV投入太大，没人想换路线。二是成本问题。压印精度难做，残余层控制差，模板贴合不稳定。中国这次把残余层控制在10nm以内，误差控制在2nm以下。模板贴合用的是自研算法和压力调控系统，压一次对一次。之前这是全行业难题。

还得提一项：国外设备对胶水有依赖，部分胶水配方被严格出口限制。这台设备用的是中国自研配方的压印胶，配合喷墨供胶系统，控制胶层厚度又薄又匀，能兼容不同图案密度，适应多种芯片结构。

也就是说，不光是设备参数更优，整套流程闭环完整，能连续压、能批量做，能走下产线。

这场对比，不只是压印路线的竞赛，还是技术体系独立性的实测。佳能做得更久，但中国走得更快。两年多时间追上14nm，压进10nm区间，说明压印路线能跑，而且能跑出结果。

换道突围的起点，中国芯片制造从此多了一条稳路

光刻领域被垄断多久了？答案是：至少二十年。

从EUV开始到现在，ASML一家独大，核心设备几乎都落在欧美手里。中国想买，ASML不卖；想造，EUV路径卡了十几层。从光源到镜头，从反射镜到调焦系统，样样卡人。

那怎么办？改道。改的是路径：从光刻变压印。从EUV光源转成模板转印。

别说这路不能走。1995年，美国学者周郁提出纳米压印构想，2004年Intel试验，后来国际蓝图（ITRS）也把它列入候选技术。但没人真的敢把它推进量产，中国做到了。

为什么中国能推进？不是说研发环境更好，是形势逼着干，路径反而清。国外已有EUV护城河，不愿意砸原有模式。中国没有原包袱，可以从零起步，压着成本走，压着实用走。

而且压印这条路，本身就适合国产链条。它不需要进口光源、不需要复杂光学系统、不用极限级别洁净车间。材料可控、设备可造、算法自研，走起来更扎实。

这台设备的交付，就是这条路线第一次真实落地。它不是取代EUV，但能填补大片空白。中端芯片制造、光电集成、封装路线、特色工艺，都能用，能用得起，也能造得起。

这套系统不是短期效应。后续还会有新的设备型号、新的压印胶配方、新的工艺标准。产业已经启动，路径已经走通。从“能看”到“能用”，从“能造”到“能交”，芯片设备这个口子，终于撬开了。

参考资料：

什么是纳米压印光刻技术？. 中关村硬创空间. 2023年6月14日

我国第一台纳米压印光刻机交付：线宽小于10nm. 新浪财经. 2025年8月6日

璞璘科技交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统. 璞璘科技微信公众号. 2025年8月5日

国内首台10nm纳米压印光刻机系统交付，光刻领域迎国产化突破. 新浪财经. 2025年8月12日

产业竞争力报告④：“三分天下”格局，中国光刻机产业如何突围. 澎湃新闻. 2021年1月26日

纳米压印技术的挑战与展望. 微纳视界. 2025年6月6日