全世界的高端芯片制造，绕不开ASML这家荷兰企业。过去几十年，全球顶尖的极紫外（EUV）光刻设备，全都出自他们一家。

设备价格高达3.8亿美元，整机重达15万公斤，要动用250个工程师、6个月时间才能完成安装。技术门槛高，价格吓人，可就算你有钱，也不一定能买到。

2018年起，美国政府开始施压荷兰，强行阻断ASML向中国出口EUV设备。2020年，连出口许可证都被叫停。

在这场针对中国高端芯片产业的技术封锁中，光刻机成了最关键的一环。光刻机断供，芯片产业链寸步难行。

2025年8月，杭州。一台叫“羲之”的机器，在浙江大学的测试基地正式完成市场投用。这是中国首台国产商业化电子束光刻机。

它的出现，不仅填补空白，更打破了西方长达60年的技术垄断。这一次，中国的科研团队，没有被卡死在门外。

ASML站得高，美国下得狠，光刻机成了全球“禁运武器”

在半导体产业的上游环节，有一样设备被称为“皇冠上的明珠”。ASML的EUV光刻机，是世界上唯一能支持7nm以下芯片制造的设备，全球只有他们能造。

他们的EUV系统分为两个系列：Twinscan NXE和更新的Twinscan EXE，后者属于高数值孔径（High-NA）技术，分辨率达8nm，对标未来的3nm工艺。

一台EXE设备售价高达3.8亿美元，需要配套使用250个集装箱运输，安装周期半年以上。目前，全世界只有英特尔、台积电和三星三家企业，拥有这台设备的使用权。

在这场由技术主导的地缘竞争中，设备控制权不再属于企业，而成了外交手段。从2018年开始，美国政府就多次对荷兰政府施压，阻止ASML向中国出口EUV光刻机。

时任国务卿蓬佩奥，甚至直接找荷兰首相沟通。到了2019年，美国白宫直接递交了机密情报，干预出口审批。

原本已经获得许可的订单，被强行叫停。荷兰政府在重压之下，冻结了ASML原计划出口中国的设备。那是一台价值1.5亿美元的EUV光刻机，原定交付给中国企业，最终被扣在荷兰港口。

2025年第一季度，ASML净销售额出现下滑，环比减少16.42%。新订单金额下降44.47%，其中EUV订单仅为12亿欧元。尽管如此，他们依旧坚持，中国要造出EUV光刻机，“至少还要很多年”。

一边封锁，一边唱衰，他们把光刻机当作了技术围墙。想让中国永远站在供应链外，等着敲门。但技术这件事，有的时候堵得住货，却未必挡得住路。

“羲之”出世，头发丝上刻城市，中国科研团队交出自己的“刻刀”

2025年8月，杭州城西科创大走廊，浙江大学成果转化基地，一台外形像钢柜的大型设备完成应用测试。上面的电子显示屏跳动着一串串参数，它的名字，叫“羲之”。

这是中国首台国产商业化电子束光刻机，具备0.6纳米精度、8纳米线宽能力。这一精度，接近主流EUV工艺水平，但使用方式完全不同。

这台机器不依赖掩膜版，而是通过高能电子束直接“写电路”，可以反复修改图案，实现芯片研发初期的快速试错。

“羲之”采用100kV电子束系统，像一支“纳米神笔”，在硅基材料上自由“作画”。研发团队形容它，“能在一根头发丝上，刻出一座城市的地图”。这种灵活性，是传统EUV设备无法实现的。

研发团队来自中国科学技术大学、浙江大学联合的量子研究院。项目启动初期，设备核心部件和技术长期受制于国际出口禁令。很多关键配件和软件，国内科研机构连采购渠道都找不到。

“羲之”的研发采用自主设计路线，依托省重点实验室平台完成系统集成和测试。不依赖国外掩膜版，不受材料供应限制。

整个项目团队把研发方向定得很清楚：服务于量子芯片、新型半导体的早期开发，不与EUV工业量产正面碰撞，但能打穿现阶段的技术壁垒。

这台机器，已经与华为海思等企业展开应用合作，具备商业推广能力。目前，其定价也低于国际同类设备，降低了科研单位与企业的准入门槛。

从测试完成到对接市场，全程用时不足三个月。这台设备落地，不是概念，也不是原型，而是具备实际应用价值的“商品”。

这个节点并非偶然。国内光刻技术发展历程，经历过一次沉寂。上世纪60年代末，全国十余个单位在北京、南京、上海等地发起“电子束曝光大会战”，但由于研发难度大、投入不足，项目陆续中止。

直到2000年后，《瓦森纳协定》开始限制中国获取高性能电子束设备，国内团队才重新起步。从被禁到自造，这一次，不再是复印别人的图纸，而是用自己的刻刀，落下一笔。

光刻机不再“卡脖子”，从封锁中杀出的中国方案，正在撬动旧格局

在半导体这个体系里，光刻机处于最上游。不是一块芯片怎么刻，而是有没有资格去刻。设备、材料、工艺，哪一项都掐在别人手里，就只能永远绕着走。

长期以来，ASML的设备出货以欧美盟友为优先，中国企业即使有订单，也排不上号。一旦形势紧张，随时冻结。

早在2020年，ASML已对出口许可证进行战略收缩。EUV之外，连DUV设备都开始受限。芯片制造不光靠设计，还要靠制造能力落地，没设备，就没能力量产先进工艺。

“羲之”的投用，为这道技术锁链劈出一条缺口。这条路径与ASML不同，它不是照搬，而是通过电子束直写技术，跳出掩膜版逻辑，用手写方式完成制图。

国内已有一批科研团队开始基于“羲之”部署新型芯片设计路线，尤其在量子芯片、科研验证芯片、小批量制造等方面，显示出明显优势。

不同于EUV的高成本、重工程，电子束光刻更适合试验型、验证型开发，正好切入中国芯片制造中的“前期试错空白”。

这场突围，有其代价，也有其深意。它没法一步到位，但打开了一扇门。门外，是全球高端设备的技术卡位；门内，是中国科研团队多年的静水深流。

ASML当然还强，全球市场仍然绕不过他们。但局面已经变了。曾经一家独大的产业结构，出现了新的变量。“羲之”是变量的起点，国产光刻不再是追赶者，而开始在另一条路上自主前行。

光刻技术，是芯片产业的关键阀门。这个阀门，握在谁手里，话语权就属于谁。曾经，中国没有钥匙。现在，这把钥匙，自己造出来了。

参考资料：

中国刻刀来了！首台国产商业电子束光刻机“羲之”出炉：和EUV光刻机有何区别. 新浪科技. 2025-08-17

首台国产商业化电子束光刻机诞生，量子芯片研发从此有了“中国刻刀”. 凤凰网. 2025-08-14

市值蒸发超1000亿！ASML：中国仍需要很多年才能造出先进EUV光刻机. 新浪财经. 2025-04-16

国产进入新一轮研发潮：电子束曝光机市场与企业盘点. 仪器信息网. 2024-01-29

ASML 的高 NA 芯片制造工具将耗资 3.8 亿美元. Tom’s 硬件. 2024-02-13

美国为阻止ASML向中国出口光刻机，多次施压荷兰. MIT科技评论. 2020-01-07