联合微电子取得光刻对位标记及其自适应设计方法相关专利

金融界2025年7月8日消息,国家知识产权局信息显示,联合微电子中心有限责任公司取得一项名为“光刻对位标记及其自适应设计方法、装置和对准方法”的专利,授权公告号CN114895538B,申请日期为2022年05月 。

天眼查资料显示,联合微电子中心有限责任公司,成立于2018年,位于重庆市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本100000万人民币。通过天眼查大数据分析,联合微电子中心有限责任公司参与招投标项目664次,财产线索方面有商标信息3条,专利信息300条,此外企业还拥有行政许可4个。

本文源自金融界

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更新时间:2025-07-09

标签:科技   光刻   微电子   标记   专利   方法   天眼   金融界   国家知识产权局   企业   信息   中心

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