朗姆研究取得集成式原子层沉积和蚀刻处理关键尺寸控制专利

金融界2025年6月10日消息,国家知识产权局信息显示,朗姆研究公司取得一项名为“针对关键尺寸控制在单一等离子体室中的原子层沉积和蚀刻”的专利,授权公告号CN111615742B,申请日期为2018年11月。

本文源自金融界

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更新时间:2025-06-11

标签:科技   原子   尺寸   专利   关键   金融界   国家知识产权局   等离子体   本文   日期   消息

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