全球半导体产业,这个曾经以精妙的全球协作而闻名的领域,如今正站在一个分岔路口。
半导体观察家马克·海金克早就预言,竞争的格局正在悄然改变。
回想2017年,时任ASML掌门人的彼得·温宁克还沉浸在中国订单额创下历史新高的喜悦中。
可没过多久,风向就彻底变了。前美国驻荷兰大使胡克斯特拉毫不避讳地向荷兰方面施压,直言EUV光刻机是敏感技术,绝不能流向某些地方……
但当ASML深入研究中国企业后发现,实际情况比他们想的糟糕……
ASML的“去风险化”策略,听起来像是主动出击,但骨子里却是一种被逼到墙角的被动防御。这家公司的命脉,建立在一对深刻的内在矛盾之上:它既极度依赖全球市场,又极度依赖全球技术。
一方面,中国市场曾是它财报上第二亮的星,贡献了高达20%的营收,还有源源不断的DUV光刻机采购合同在路上。
另一方面,它的技术心脏,比如EUV光刻机最关键的光源部分,却是在美国跳动的。它本身更是深度嵌入了由美国资本主导的EUVLLC技术联盟,根本无法独善其身。
这种矛盾在2018年中芯国际那笔订单上被彻底引爆。当时,中芯国际用几乎一整年的利润,签下了一台价值1.2亿美元的EUV光刻机采购协议。ASML的管理层最初还很乐观,他们觉得公司身处中立国荷兰,只要合作合规,商业逻辑总能战胜一切。
然而,公司的监事会却嗅到了危险的气息,对这笔交易背后的政治风险忧心忡忡。事实证明,监事会的担忧并非杞人忧天。白宫的国家安全顾问为此多次飞往荷兰,美国国务院和国防部也轮番上阵,外交压力铺天盖地而来。
最终的结果我们都知道了,那台原本计划在2019年交付的EUV设备,在ASML一场离奇的火灾后便没了下文。路透社的消息源透露,这背后正是美国政府一系列秘密行动的“成果”。
ASML这才恍然大悟,自己根本无法只按商业规则出牌。于是,所谓的“去风险化”,即在不同地区复制和备份供应链,本质上就是对这种无力感的对冲,是在现有体系内增加冗余,以求自保。
失去了EUV,就等于被关在了通往先进芯片世界的大门之外。无奈之下,中国芯片产业被迫走上了一条截然不同的道路,一条成本高昂且布满荆棘的“替代路径”。
这条路的核心,就是用技术相对落后的DUV浸润式光刻机,配合复杂的多重曝光技术,硬生生“雕刻”出7nm芯片。马克·海金克将这种做法形容为一种“绝境下的技术手段”,并直言从长远来看,它的性价比远远比不上EUV方案。
代价是惊人的,建立一条这样的产线,投资可能超过150亿美元。更关键的是,资源的分配逻辑被彻底颠覆。在EUV路线上,大约70%的投资用于光刻机之外的后端设备。
而在这条替代路径上,这个比例飙升到了80%。这意味着,技术攻关的重心,从前端的光刻,被迫转移到了后端的沉积、刻蚀等一系列复杂工序上。
这并非一次主动的技术抉择,中国驻荷兰大使徐宏的表态就印证了这一点,他明确表示,如果因为政治原因遭遇不公平限制,那么除了走向自主,别无他法。
这是一种在外部封锁下,没有选择的选择。正如英伟达CEO黄仁勋所说,当你不卖给他们产品时,只会迫使他们自己制造替代品,并通过一次次的实际应用来打磨完善。
然而,历史往往充满了悖论。试图通过锁死单一“源头”设备来遏制对手的策略,却产生了意想不到的化学反应,它非但没能掐灭火焰,反而催生了一片燎原之势。
当初的封锁,意外地成了中国自主研发最强大的驱动力。无论是海金克,还是黄仁勋,都认为外部限制是刺激中国工程师们奋起直追的“最佳兴奋剂”。
就连ASML自家的首席技术官马丁也坦承,制裁极大地促进了中国的技术投资,并断言中国公司在未来将成为他们最强有力的竞争者。
逻辑其实很简单。正是因为“DUV替代路径”将80%的投资和技术压力都转移到了后端,这反而给本土的后端设备企业创造了一个前所未有的、巨大的内需市场和研发温床。没有了国际巨头的竞争,它们获得了宝贵的试错和成长空间。
结果是,一批本土企业迅速崛起。中微半导体、北方华创、盛美半导体等公司,在刻蚀机、薄膜沉积、清洗等多个关键后端环节,不仅实现了技术突破,更成功地将产品送进了产线。
当初试图掐断“源头”的封锁,最终却催生出一条基本贯通、自主可控的“后端制造产业链”。这恐怕是制裁发起者始料未及的。
海金克做过一个预测,他认为中国企业大约需要十年时间,就能达到ASML现在的技术水准。这个预测背后,揭示了一个深刻的道理:封锁虽然在短期内能够奏效,但从长远看,它却等于亲手为自己培养了一个“全能型”的竞争对手。
地缘政治的重压,正以一种不可逆转的方式,重塑全球半导体产业的版图。ASML的“去风险”和中国的“自主化”,看似走向了两个极端,实则是同一股压力下的两种不同应激反应。
信息源:
海因克:ASML面对中国 长远成竞争压力,2025-09-12。
更新时间:2025-10-08
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