从2016年的“中兴事件”开始，美国就展开了对中国半导体行业的制裁，一步步升级到“全面禁运”，想要扼杀中国半导体产业的成长。

但最近据日本媒体透露，中国距离造出“光刻机”只差一步了！有望成为继日本、荷兰之后，第三个掌握“光刻机”制造技术的国家。

中国是如何击破“芯片围堵”的？中国距离造出“光刻机”到底还差哪一步？

只有两个国家能造“光刻机”

全球光刻机市场处于高度垄断竞争的市场格局，光刻机制造由荷兰的ASML、日本的尼康和佳能三家企业主导。这三家企业形成了差异化的竞争态势，在技术路线和市场定位上各具特色。

日本的尼康和佳能主要是聚焦于中低端光刻机的生产，因为其“高性价比”，而广受中国等发展中国家的欢迎。

荷兰的ASML公司则走“高端化路线”，其制造的EUV光刻机能够制造7nm以下的芯片，台积电、三星与英特尔公司就是用ASML公司制造的光刻机，才生产出了大规模的“高级芯片”。

目前的光刻机市场荷兰的ASML公司占据着主导地位，他们占据着90%以上的市场份额，近乎垄断着高端光刻机市场。

西方通过大规模入股这几家公司，加上“一定的外交手段”，间接控制了这3家公司，这才能够在“芯片问题”上对中国“卡脖子”！

“摩尔定律”在失效

“摩尔定律”是英特尔创始人戈登.摩尔在1965年所提出的一个观点，他预测芯片上集成电路的晶体管数量，每两年就可以翻倍。

芯片的性能会不断增加，而体积却会变得越来越小。

这个定律在生效半个世纪之后，受“边际效应”的影响，在今天终于放缓“摩尔定律”，甚至面临终结。

芯片的提升已经快到它的极限了，再提升的空间也不大了。

芯片上可容纳的晶体管数量虽然还在增长，但其对芯片性能的提升却微乎其微，简单来说，就是再提升的“性价比不高”了!

西方的“技术停滞”给中国带来了追赶的“契机”！

中国的“芯片布局”

大家都知道，制造业是一个复杂的系统，制造光刻机更是复杂，它需要无数个流程和零件。例如荷兰ASML公司生产的EUV光刻机，光是供给他们零部件的供应商就有5000多家。

美国为首的西方国家为了打击中国半导体产业，悍然发动了对中国的“芯片战”，妄图将中国的半导体产业“扼杀在摇篮里”！

但也倒逼中国建设自主的芯片供应链，可能让中国完成自主化后，反而侵蚀了西方在芯片行业的市场份额！

不要忘了，中国是世界上最大的芯片消费市场，占据了全球芯片消费总量的35%，市场规模超过了2500亿美元。

中国还是世界上唯一的全工业体系国家，拥有41个工业大类，666个工业小类，工业完整程度超过了拥有30个工业大类的美国和拥有35个工业大类的德国。

背靠14亿人的巨大消费市场，工业体系完整，有充足的试错空间和巨大的生产潜力，这就是中国敢于“亮剑”的“底气”所在。

为了打破西方的“技术封锁”，中国专门设立了国家集成电路产业基金，两期一共3000亿元，并在长三角、珠三角和京津冀三大工业区形成了大规模的产业集群。

西方内部也不团结

美国对中国发布的禁令直接地影响到了荷兰ASML公司的营收，净利润暴跌。

于是ASML公司表面上严格遵守美国发布的禁令，停止向中国出售先进的EUV光刻机，而是向中国出售支持支持38nm工艺的1980Di DUV光刻机，其经多重曝光后可实现7nm芯片的生产。

同时，ASML公司持续“去美国化”路线，不断降低美国零件的使用占比，以减少美国的“长臂管辖”。

并且，ASML公司积极游说欧洲各国政要，强调“欧洲自主决策权”，并认为对中国的过度封锁会“加速中国的自主替代”。

7月16日，ASML公司发布了第二季度的财报，其营收高达77亿欧元，利润高达22.9亿欧元。可见与中国合作给ASML公司带来的收益之大！

还差最后一步！

中国现在已经能够生产出制造28nm芯片的光刻机了，中芯国际、华虹半导体已经开始量产。

中国使用“多重曝光技术”等工艺，将28nm芯片的体积不断地压缩，其性能直追英伟达的7nm芯片H20。

以至于美国不得不放松对中国的技术出口，为中国设置“技术天花板”，允许中国购买“落后一代的设备”，让中国不得不继续保持对西方的“技术依赖”，从而延缓中国关键设备的自主化进程。

中国近年来不断攻克西方的“卡脖子”技术，将西方给与中国的外部压力转化为了进行自主创新的动力，开辟出了新的技术方向。

例如中国自主研制的涡扇-15航空发动机，其性能接近美国的F119发动机水平；新松、埃斯顿研制的工业机器人，将国产机器人的市场份额推高至了40%；中国的“宁德时代”研制的麒麟电池，其续航达到了1000公里，在全球的市场份额高达37%。

此外，中国的核电站技术、光伏技术、高铁技术以及操作系统等方面都取得了长足的进步，反而可能有“卡西方脖子”的可能。

中国一直没有放松现在还差一个技术难题没有解决好，就是中国制造的28nm光刻机距离顶尖的5nm、7nm还有距离。

虽然对于很多工业与军事设备来说，28nm的芯片已经足够用了，但中国的光刻机技术依然有较大的提升空间。毕竟，5nm、7nm芯片才是市场应用的主流选择。

对未来的展望

举国体制与市场化创新相互结合，给中国的技术攻关带来了无穷的动力，在未来的5-10年，中年过有望在更多领域实现关键技术的自主可控。

西方躺在过去的“功劳薄”上“混吃等死”的日子将会一去不复返了！如果中国真的实现了关键技术的国产化，那么以后的西方别说吃肉了，就是汤恐怕都没得喝！