京东方A获得发明专利授权:“气相沉积设备、气相沉积设备的温度控制方法、设备和介质”

证券之星消息,根据天眼查APP数据显示京东方A(000725)新获得一项发明专利授权,专利名为“气相沉积设备、气相沉积设备的温度控制方法、设备和介质”,专利申请号为CN202410889803.0,授权日为2025年10月3日。

专利摘要:本申请公开了一种气相沉积设备、气相沉积设备的温度控制方法、设备和介质,一般涉气相沉积技术领域。该设备包括:相对设置的第一电极和第二电极,第一电极靠近第二电极的一侧设置气体均匀器,气体均匀器和第二电极之间设有第一空间,在第一电极远离第二电极的一侧设置温控板;第一电极与气体均匀器相对设置并通过连接件电连接;连接件包括中空结构,且中空结构在气体均匀器的正投影在第一电极的中间区域在气体均匀器的正投影之内;其中,第一电极与气体均匀器分别贴合设置在连接件两侧的端面上,和/或,在气体均匀器靠近第一电极一侧、且处于连接件在气体均匀器正投影区域的外侧区域设置有与温控板中的温控管路相连通的第一温控管路。

今年以来京东方A新获得专利授权3169个,较去年同期增加了15.91%。结合公司2025年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了60.46亿元,同比增4.13%。

数据来源:天眼查APP

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更新时间:2025-10-06

标签:财经   京东方   设备   介质   方法   电极   均匀   气体   正投影   天眼   管路   区域   专利

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