传Rapidus的2nm逻辑密度赶上台积电,并大幅领先Intel 18A

9月1日消息,据外媒wccftech援引社交媒体平台“X”上的用户@Kurnalsalts的爆料称,日本新创晶圆代工企业Rapidus 的 2nm(2HP)工艺将可在逻辑密度上与台积电的 2nm(N2)制程竞争,并将大幅击败Intel 18A。

据@Kurnalsalts透露,Rapidus 的2nm制程“2HP”的逻辑晶体管密度为 237.31 MTr/mm²,与台积电的 N2 的236.17 MTr/mm²相当,并且将大幅超过Intel 18A的逻辑密度184.21 MTr/mm²(目前该数据还只是估算)。

该用户还透露,Rapidus 2HP达到此逻辑密度所涉及的单元库,包括一个HD(高密度)库,其单元高度为138个单元,间距为G45。假设Rapidus 2HP和台积电N2的数字相似,这表明这两个节点都是HD型单元,其目标是最大逻辑密度,一旦最终解决方案首次亮相,晶体管数量可能相似。

尽管Intel 18A的逻辑晶体管密度相对较低,只有约184.21 MTr/mm²,这主要是由于使用HD库对Intel 18A进行基准测试,另外Intel 18A逻辑密度相对较低的另一个因素是,Intel 18A使用了最新的背面供电(BSPDN)技术,占据了一些前侧金属层,这就是为什么HD库测量中的Intel 18A逻辑密度数字有所下降。由于英特尔的重点是性能/瓦特指标,因此更高的密度不是该公司的最终目标,特别是因为Intel 18A主要用于内部使用。

如果Rapidus 的 2HP 制程的逻辑密度数字属实的话,这也就意味着Rapidus在尖端制程技术的巨大进步。根据计划,Rapidus的2nm PDK 将是2026 年第一季度向客户提供,并预计将于2027年量产。

编辑:芯智讯-浪客剑


展开阅读全文

更新时间:2025-09-02

标签:科技   密度   大幅   逻辑   晶体管   单元   数字   英特尔   技术   代工   间距

1 2 3 4 5

上滑加载更多 ↓
推荐阅读:
友情链接:
更多:

本站资料均由网友自行发布提供,仅用于学习交流。如有版权问题,请与我联系,QQ:4156828  

© CopyRight 2020- All Rights Reserved. Powered By 71396.com 闽ICP备11008920号
闽公网安备35020302034903号

Top