国产DUV光刻机试产，深圳和上海立了大功

中国再次打破了西方的一些魔咒，他们认为中国不可能突破的技术，基本上最后都被中国一一攻克了。

如今，这个打破魔咒的定律再次发生在了光刻机身上。

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昨天相信大家都在网上看到了一个比较劲爆的消息。

据说国产芯片代工巨头中芯国际已经开始试产国产的深紫外线光刻机，也就是DUV光刻机。

至于这个消息是否真实，目前我们没有看到中芯国际进行回复。

但是昨天上海证券报特别报道了这个事情，他们虽然引用的是知情人士的消息，但应该八九不离十，市场的举动最能说明一切。

受到这个消息的影响，昨天很多跟光刻机有关的板块都大幅拉升，有个别企业直接涨停。

而且结合我国光刻机技术的进步来看，国DUV光刻机试产应该是比较靠谱的。

对于国产DUV光刻机的突破，这早就是公开的秘密。

去年工信部在发布《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》当中就包含了氟化氪光刻机和氟化氩光刻机，其中氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度，这已经是达到了DUV光刻机的标准。

这说明早在去年的时候，我国已经实现了DUV光刻机关键技术的突破，而且已经具备了市场推广的条件，只是当时大家不知道是哪家企业而已。

如今再结合中芯国际试产国产DUV的消息，这两者基本前呼后应，所以基本肯定国产DUV光刻机已经进入商业试产阶段。

当然这里面仅仅是试产，至于试产的效果如何有待评估。

目前市场普遍关心的是这个国产DUV光刻机的良率如何？它能生产多少制程的芯片？

对于大家关心的这些问题，从外媒透露的一些信息来看，国产28 纳米DUV 光刻机生产28纳米甚至14纳米芯片基本上是没有多大问题的。

而且通过多重图案技术还可以生产7 纳米的芯片；在努力压一压，甚至可以生产5纳米芯片，只不过它的良率会比较低，生产成本很高昂。

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看到这估计大家可能有一些失望，认为国产DUV光刻机跟ASML的差距太大了。

目前ASML所生产的EUV光刻机已经可以用于生产2纳米的芯片，而我们还在为7纳米奋斗，这确实有点让人无法接受。

但我觉得大家没有必要妄自菲薄，我国能够突破DUV光刻机技术已经是相当牛叉的存在了，纵观全球，真正能够生产DUV光刻机的国家也就三个，分别是荷兰、日本和中国。

另外对于我国来说，大家完全没有必要痴迷于EUV光刻机，因为DUV光刻机已经可以满足市场上绝大部分芯片的生产需求。

目前除了手机旗舰款等少数电子产品需要用到7纳米以下芯片之外，28纳米以上的芯片工艺已经可以满足绝大多数工业产品的需求，包括普通的手机，家电，汽车，军工产品等等都可以满足。

这意味着如果国产DUV光刻机正式量产了，这意味着我们在芯片制造上将能够形成闭环，绝大多数环节都能够实现自给自足，完全不用看别人的脸色。

就算有极个别领域可能需要7纳米以下的芯片，但如果有必要，我们完全可以不计成本地通过多重曝光达到目的，这样同样也可以绕开别人的限制。

所以相比EUV光刻机而言，我觉得DUV光刻机对于中国来说现实意义会更大，这将让我国的芯片更加独立自主。

当然在这我们并不会说EUV光刻机不重要，EUV光刻机同样很重要，只是基于目前国产芯片产业链以及技术积累，我们短期无法生产。

但未来随着DUV光刻机的量产，我坚信EUV光刻机的突破不会太遥远。

既然我们有能力突破DUV光刻机，这说明我们在相关产业链上面已经有了一定的基础，而且未来随着国产DUV光刻机的大范围应用，它肯定能够带动相关产业链一起发展，很多薄弱的环节会慢慢得到提升。

而且事实也证明了这一点。

对于DUV光刻机，这里面有两个非常核心的技术，也就是光源系统和物镜系统，而这次试产的国产DUV光刻机，它所使用的很多光源零部件以及镜头零部件都是国产的。

比如某波光电可以供深紫外（DUV）非物镜镜片，包括照明系统、激光器光源镜片，其ZnSe镜头已应用DUV光刻机上。

比如某新光学可以提供EUV+DUV镜片及镜头模组，其中光学元件精度达纳米级（RMS＜0.5nm），直接打破德国蔡司垄断。

再比如某晶科技和宇量昇合作开发的固体激光驱动光源转换效率达3.42%，已经接近商用光源5.5%的水平，这直接绕开美国Cymer在高端光刻机光源上的专利垄断。

除此之外，在光刻胶、特殊气体等一些核心零部件和材料上面国产都能够找到一些替代者。

基于这些技术积累和产业链的完善，未来DUV光刻机大范围量产基本上是板上钉钉的事情，而且EUV光刻机迟早有一天也会突破的。

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对于国产光刻机技术的突破，我们要特别表扬两个城市，一个是上海，再一个是深圳。

尤其是在DUV光刻机技术突破上面，这两个城市更是立了大功。

其中上海作为我国半导体产业最完善的城市之一，从软件开发，再到光刻机生产，再到芯片代工都很强悍。

之前国产最先进的光刻机供应商就是上海的微电子，前几年市场就一度传出他们已经研发出了28纳米的光刻机，后来这个消息就不了了之了，至于他们最新进度如何我们也不太清楚。

但可以肯定的是，除了上海微电子之外，上海在光刻机技术上的积累已经处于全国前列。

除了上海之外，深圳在半导体设备上的实力也不容小觑，甚至有后来居上的趋势。

比如最近两年大火的新凯莱，就是深圳本土的企业，他们已经研发出了很多核心的半导体设备。

之前市场就传出他们有可能在研发光刻机，只是他们没有透露任何消息而已。

但这次随着外媒传出中芯国际试产国产DUV光刻机，新凯莱研发DUV光刻机的消息应该是基本实锤了。

根据一些外媒报道，这次中芯国际试产的DUV光刻机由一家完全不知名的初创企业供应，也就是之前市场鲜有宣传的宇量昇。

目前有关宇量昇的信息比较少，从公开资料来看，宇量昇成立于2022年，它主要有两个股东，一个是深重投，还有一个是上海科创。

这两个企业都属于国资，在推动国产半导体产业发展上面都具有举足轻重的作用，目前大家所熟悉的很多半导体企业背后其实都有着这两个国企的身影。

再比如新凯来背后的大股东就是深重投，也就是说新凯莱和宇量昇背后的股东是同一个，只不过他加入了上海科创。

这说明新凯莱跟宇量昇是兄弟单位，甚至有可能是相互控股的子母公司。

至于两者真实的关系如何，目前从公开资料上很难查到，而且宇量昇这家企业也非常神秘，所以我们在这也不好过多地去探究，大家点到为止。

但可以肯定的一点是，目前上海和深圳这两个城市一直都在发力国产半导体设备，承担着国产半导体核心技术突破的重任，而这种技术突破的背后有一个很牛的企业，在这我们不说大家也懂，这个企业在深圳和上海都有很庞大的业务，而且也有很庞大的研发团队，他们对国产光刻机技术的突破应该功不可没。

当然除了深圳和上海这些国资以及企业的努力之外，国产光刻机的突破也离不开上下游产业链的支持，更离不开一些高校和科研院所的技术支持，只有大家共同努力才能真正地实现国产高端光刻机的突破。