国林科技：公司氨水设备可以用于光刻胶显影环节

金融界6月9日消息，有投资者在互动平台向国林科技提问：所谓电子级氨水，主要用于晶圆清洗、光刻胶显影及蚀刻后处理等关键制程。公司的半导体氨水发生器是否用于光刻胶显影环节？

公司回答表示：尊敬的投资者，您好。公司氨水设备可以用于光 刻胶显影环节。感谢您的关注。

本文源自金融界