上海新微取得减少立体图形光刻失真光刻方法专利

金融界2025年8月23日消息，国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司取得一项名为“减少立体图形光刻失真的光刻方法”的专利，授权公告号CN116360207B，申请日期为2021年12月。

天眼查资料显示，上海新微技术研发中心有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目481次，财产线索方面有商标信息52条，专利信息711条，此外企业还拥有行政许可43个。

本文源自金融界