金融界2025年8月1日消息,国家知识产权局信息显示,第一阳光公司申请一项名为“通过气相传输沉积进行钙钛矿器件加工的方法”的专利,公开号CN120400756A,申请日期为2021年02月。
专利摘要显示,本发明涉及通过气相传输沉积进行钙钛矿器件加工的方法。描述了通过使用气相传输沉积(VTD)形成钙钛矿层和钙钛矿前体层用于制造光伏器件的结构和方法。
本文源自金融界
更新时间:2025-08-04
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