第一阳光公司申请通过气相传输沉积进行钙钛矿器件加工的方法专利，描述了通过使用气相传输沉积(VTD)形成钙钛矿层和钙钛矿前体层用于制造光伏器件的结构和方法

金融界2025年8月1日消息，国家知识产权局信息显示，第一阳光公司申请一项名为“通过气相传输沉积进行钙钛矿器件加工的方法”的专利，公开号CN120400756A，申请日期为2021年02月。

专利摘要显示，本发明涉及通过气相传输沉积进行钙钛矿器件加工的方法。描述了通过使用气相传输沉积(VTD)形成钙钛矿层和钙钛矿前体层用于制造光伏器件的结构和方法。

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更新时间：2025-08-03

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