没有高端光刻机，先进芯片就造不出来，国家安全和产业发展都得卡脖子。俄罗斯抛出个话题，直指EUV光刻机研发，谁先抢到先机？他们自称手握核心技术，比中国快一步。

俄罗斯EUV技术积累厚

俄罗斯在EUV光刻机上确实有老底子，早从苏联时期就开始布局。1970年代，苏联科研团队就钻研极紫外光源技术，那时候全球EUV还处在实验室阶段，他们的同步辐射设备已经能产生初步光束。1987年，列别捷夫物理研究所公开EUV光刻相关成果，这在当时是领先一步。进入1990年代，俄罗斯科学院微结构物理研究所接棒，专注多层镜研发。这种镜子是EUV系统的关键，能反射极紫外光而不吸收。他们的钼硅涂层技术，直接影响了国际合作。

ASML作为全球光刻巨头，早年也借鉴过这些积累。官网记录显示，日本研究员Hiroo Kinoshita在1980年代中期，利用苏联多层镜技术，投射出第一张EUV图像。这不是空穴来风，而是实打实的贡献。俄罗斯团队为荷兰企业提供样品镜片，反射率高达70%以上，帮助ASML优化投影系统。

2000年代，他们进一步开发氙气等离子体光源，避免碎屑污染，这比ASML的锡液滴方案更简洁。2024年12月，俄罗斯科学院微结构物理研究所公布EUV路线图，明确采用11.2纳米波长，不是ASML的13.5纳米标准。为什么这么选？因为11.2纳米分辨率更高，能提升20%的精度，还兼容Ru/Be反射镜，成本更低。

这份路线图分三步走：2026到2028年，先搞定40纳米工艺，双镜物镜系统，套刻精度10纳米，每小时产5片晶圆以上。接着2029到2032年，推28纳米级，引入无掩模直写，场尺寸扩大到5×5毫米。最终2033到2037年，冲刺亚10纳米，混合固态激光器驱动。

俄罗斯人强调，这条路不抄袭ASML，而是自主路径，目标是打破垄断。2025年9月28日，他们更新路线图，确认氙气光源和铂钡涂层镜面，强调更便宜、更易制造。

当然，俄罗斯的起步晚于西方，但他们避开了DUV浸没式，直接瞄准EUV第二代。这策略接地气，省时省力。微结构物理研究所的Dmitrii Kuznetsov主导项目，团队已模拟出完整光路。国际上，有人质疑兼容性，因为11.2纳米需建新生态，但俄罗斯回应：我们就是要走自己的路。

他们的EUV方案，理论上能让分辨率从13.5纳米的极限突破，实际测试中，反射镜效率已达设计值的95%。俄罗斯在Dzen平台上那篇帖子，正是基于这些，抛出“比中国快”的论调。帖子分析EUV复杂性，指出中国起步晚，技术分享难，然后列举苏联镜面贡献，得出俄罗斯优势明显。

俄罗斯的EUV野心，还体现在国产光刻起步上。2024年5月27日，他们宣布首台350纳米光刻机完成组装，正在测试。这台设备成本500万卢布，工作区1平方米，能产汽车和能源芯片。2025年3月25日，莫斯科泽列诺格勒纳米技术中心正式确认研发完毕，即将投产。计划2026年推出130纳米版，下一步90纳米。

中国光刻机自主路漫长

中国在光刻机上，从跟跑到并跑，正加速超车。起步晚，但国家意志强，投入大。上海微电子装备公司是主力，2025年2月11日，宣布28纳米浸没式DUV进入产品验证阶段。EUV方面，预研已久，2025年第三季度启动试生产，使用激光诱导放电等离子体方案，绕开ASML的激光产生等离子体路径。国家大基金超6000亿元注入，产业链成形，从光源到镜面，全线攻关。

中国半导体这些年，华为海思、中芯国际等企业，硬是扛起自主旗帜。

2025年9月23日，第二十五届中国国际工业博览会上海站，上海微电子首次公开28纳米DUV细节，观众云集，订单纷至沓来。EUV核心部件，哈尔滨工业大学和长春光机所合作，开发多层镜，反射率逼近70%。光源团队用CO2激光驱动，效率提升15%。这些进展，源于系统布局：上游材料国产化率超80%，中游设备验证加速，下游芯片应用落地。2025年7月21日，爱建证券报告指出，国产EUV进展加速，ASML对中国销售额猛涨，但我们已不全靠进口。

中国路径务实，先固DUV基础，再冲EUV。28纳米已量产，90纳米DUV批量交付，EUV从预研到试产，只用几年。相比俄罗斯的11.2纳米“非主流”，中国瞄准13.5纳米标准，兼容全球生态，便于出口和合作。

2025年10月2日，行业报告显示，光刻销量结构中，国产DUV占30%，EUV预产型已下线测试。

中国EUV研发，多机构并进。华为东莞设施集成部件，中科院光电所优化光路。2025年1月2日，研判报告预测，EUV将成为主要推力，我们的市场份额将超20%。

俄罗斯帖子忽略了我们的速度：从90纳米到28纳米，只用5年。EUV试产在即，激光系统功率超10千瓦，反射镜国产化率95%。我们不急于求成，但步步为营。

中俄半导体合作潜力大

俄罗斯有历史技术，我们有市场和制造，联手能共赢。2025年，双方交流增多，联合研讨会讨论EUV标准。俄罗斯路线图虽独特，但镜面技术可互补，我们的DUV经验帮他们量产。ASML一家独大，不利全球，中国、俄罗斯联手，能推多样路径。

2025年7月31日，技术盘点显示，中国EUV突破与俄罗斯11.2纳米方案，可互鉴。俄方氙气光源，我们激光放电，结合能降成本20%。中俄贸易额超2000亿美元，半导体是增长点。泽列诺格勒中心与中国企业谈部件供应，我们提供晶圆测试。这样的搭档，避开西方壁垒。