ASML申请物镜冷却系统专利，改进磁透镜冷却系统

金融界2025年8月2日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“物镜冷却系统”的专利，公开号CN120418917A，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，公开了一种改进的磁透镜冷却系统。磁透镜组件可以包括线圈、包含线圈的外壳以及与外壳隔离的极片，使得在外壳与极片之间存在间隙。其中该磁透镜组件能够被配置为在该间隙中具有真空压力。

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更新时间：2025-08-05

标签：科技   物镜   系统   透镜   专利   外壳   线圈   金融界   间隙   国家知识产权局   组件   荷兰

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