了不起！中国国产光刻机获得突破，技术超越日本，稳居世界第二

我国在芯片这一个发展领域，目前来说这样最大的困惑应该是为什么我国不能够生产出先进的光刻机。

首先光刻机并不像其他的小部件说生产就生产，据了解生产一台光刻机需要的零件上万个，并且这些零件都来自于不同的国家，需要从这些国家进口。其次，我国没有能够生产出先进光刻机的技术。

最后有一些国家很害怕我国在电子领域能够发展的特别特别好，对他们造成威胁，所以他们就限制我国的发展。

即便我国处于这样一个不利的地位，中国还是传来了好消息，这一个好消息就是中国国产光刻机获得突破，技术超越日本，稳居全球第二，相信各位应该知道，我国国产光刻机能够取得技术突破，对于我国在这一个领域的发展多么重要。

这一次带来好消息的是上海紫光电子，他们在光刻机方面研制出了22纳米的工艺，这一次的技术突破虽然不能代表着我国开始在这一个领域属于优势地位，但是他却意味着我们可以不用对荷兰的ASML公司太过于依赖。

虽然我们现在只能够达到22纳米的紫外线工艺，与最先进5纳米工业还相差的特别多，但是我们至少在这一个领域取得了突破，这一点我们还是可以高兴一下的。

我国虽然在光刻机研制技术上还存在一定的不足之处，但实际上来说如果最先进的光刻机能够将他的图纸或者是一小部分的工艺公布出来，那么我国肯定是能够沿着这一条线路去研究。

按照这样的发展模式，中国是完全可以在这一个领域上后来居上的，不过我国现在处于一个劣势地位，我们还是要向一些先进的企业须心学习，只有这样才能获得更多的知识，在很多领域上早日获得突破。

这一次我国上海紫光带来的好消息，让我们在光刻机研制这一条道路上已经有了一定的底气，在不远的未来我们肯定会取得更大的突破，让我们拭目以待吧。

好了今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！