官媒亲自恭贺！中科院突破高端光刻机关键部件

老美对华为的制裁，让华为处在水深火热之中，同时也让中国的芯片产业彻底觉醒，不能把技术掌握在自己手中，随时都可能有华为那样的“下场”。但是芯片生产并不是像我们想象的那样简单，生产一片芯片同样要经过数道工序，设计，代工，测试，封装等缺一不可。

这几个环节中唯有设计这方面，我们勉强可以跟上世界先进工艺水平，其他方面平均都落后10年左右。其中难度最大的还是光刻机，光刻机技术被网友们称为比核弹还要难生产，这种说法一点也不夸张，也正是光刻机研发难度太大，即使我国全力攻克，没有10年的时间也无法实现自产。2018年以前还可以从荷兰ASML购买到光刻机，但是随着我们国力增强，中国企业对国外垄断的技术开始逐渐攻破之后，老美开始慌了。从2018年开始就逐渐通过威逼利诱，阻止西方国家对中国出售高端精密产品，光刻机当然也在其中。

网友们可能都知道2018年时，我国就从ASML订购了光刻机，但是老美由于从中阻拦到现在为止，这批光刻机还是没有能够到达中国手中。而且前段时间老美又通过一项法案，明确告知荷兰不许对中国出售EUV光刻机，这样一来从外部购买光刻机的路子是彻底堵死了。有很多网友会问，荷兰的光刻机干嘛要听老美的，其实ASML并不是荷兰一家生产的，而且光刻机也不是仅仅有钱就可以生产出来的设备。

一台光刻机的重量达到180吨，一共有10多个各类零件，需要全球十多个国家，几十个世界顶级企业，和60多个不同行业的配合才能生产出来一台先进的光刻机。而且其中工艺极其复杂而且要求精密度奇高，芯片大家都知道，也只有手指甲盖大小，需要雕刻线路图的地方厚度仅仅只有一微米，一微米的厚度大概也就是苍蝇翅膀的厚度。首先要能清楚地观察到这个厚度，控制力量才能进行雕刻，在此之前还需要一只能够雕刻的“笔”，而对这个“笔”的要求就更加高了，笔芯直径要5纳米才能完成。

即使有这样还不够，还需要德国蔡司公司的镜头，日本公司的复合材料，还有全球最先进的精密机床，和控制软件等等。现在ASML最先进的EUV光刻机，也就是紫外线光刻机，其中涉及到的学科更是广泛，光学，化学，流体力学等等，还需要图像识别，科学仪器，自动化软件等等领域。不论是这些学科和技术领域，都不是一个国家可以同时掌握的，所以说一个国家拥有的技术是不可能制造出来光刻机的。

光刻机对于中国来说生产难度同样非常大，现在国家对光刻机研发是通过分工合作的方式，不同的单位生产不同的部件。而且最近光刻机的研发就传来了好消息，首先是EUV光刻机最核心部件之一的光源，已经由清华大学的研发团队完成，该团队是粒子加速器，通过了对紫极光的实验验证，证明这种理论可以为光刻机提供光源。为了完成这项任务清华团队前前后后跑了8次德国，现在终于大功告成，而且不仅是光源已经完成，从官方发布最新消息得知，光刻机的镜头现在也已经由中科科美完成。

中科院也研发出国家第一台高能同步辐射光源科研设备。同时中科科美是中科科仪旗下的公司，这次研发出来的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置是19年10月正式开始的，现在还不到两年就已经有重大突破，要不是说得谢谢西方国家，他们不逼我们一把这些东西现在也不会这么着急去做，而且这台设备也是全球最亮的最先进的光源之一。这台光源设备是我们国家生产先进光刻机的重要支撑，EUV光源是当之无愧的光刻机最核心部件之一，镜镀膜装置是当下要求最高，也是支撑最先进的技术。为ASML提供镜头的蔡司公司，也只有不到30位工程师有这项技术，也就是说我们国家已经一只脚踏进先进光刻机领域了。

现在我国的光刻机技术在被西方围追堵截的情况下，仍然有重大突破，中科院成功研发可以生产28纳米芯片的光刻机，预计在未来4年还将有更大突破。但如果想成功夺回在世界上的芯片话语权，不仅要能够实现自产，还要有创新，我们国家的科学家就没有局限于老技术，在“光量子芯片”上也投入很大精力。光子芯片相比较于电子芯片的性能更强，而且损耗也更小，虽然现在电子芯片的风头仍然正盛，但是遇到的瓶颈也越来越多，“光量子芯片”已经成为未来芯片的趋势。

如今芯片大热的环境下，越来越多的企业加入进来，同时有了这两项技术也为国家生产先进光刻机打下了基础，也让更多企业有了加入芯片大军的底气。但是光刻机中重要部件不仅仅是这些，我们所欠缺的还有很多，甚至在材料上同样有很大程度落后，这些同样是会被卡脖子的地方，希望加入进芯片领域的企业也能在各个环节上有突破，早日完成芯片大业！