美国仍未“放手”！中国进口5nm光刻机再受阻，国产何时能崛起？

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半导体领域是世界未来发展道路中不可跨过的一道坎儿，全球范围内半导体领域发达的国家如今只有美国、韩国等发达国家。众所周知，芯片必须由光刻机来制造，ASML公司是全球唯一一家能够生产先进EUV光刻机的公司，美韩等国家都能够从ASML公司进口到先进光刻机，由于中国无法进口到先进EUV极紫外光刻机，所以即便我们所掌握了芯片的制程工艺，也无法制造芯片。

很早以前，中国中芯国际曾向ASML荷兰巨头公司支付了1.5亿美元，希望能够购买一台先进的EUV极紫外光刻机。按理来讲，钱我们付了、合同也签了，那“货”是不是应该也要发来中国呢？真的挺意外的，由于美国方面的压力较大，最终荷兰ASML公司竟然没有签下出口中国的许可证，已至最终无法卖给中国。与其说是没有签下，不如说是不敢签下。

荷兰ASML公司虽然总部在荷兰，但是其投资商多了去了。据了解，荷兰ASML光刻机之所以研制的如此成功离不开背后大佬们的投资，试想一家从飞利浦独立而出的小小的荷兰公司如何能发展到如今这局面。所以，这背后的大佬正是美欧。我国也明白，想要在老虎面前夺得食物太难了，所以我国选择一边自研实现国产，一边向ASML公司求购光刻机。

我们了解到，近年来ASML公司不停地在中国开拓市场，深圳、香港、背景等地已经有了ASML的分部，同时也在不停地招募在华地区的半导体领域人才。这让我们有一种错觉，就是可能ASML公司会愿意将光刻机卖给我国。于是，在最近一段时间内，我国与荷兰方面不断沟通，意在购买一台180吨重的“极紫外光微影系统”，可是最终还是宣告了求购失败。

这台光微影系统是生产尖端微处理器芯片的关键设备，过了这么长时间，极紫外光微影系统美国仍然不愿意放手，那么这意味着今后我国想要从ASML公司进口到极紫外光刻机的概率几乎是零。既然如此，我国只能做最坏的打算，那就是国产光刻机何时才能崛起？

据了解，我国定下的目标是2030年能够实现量产极紫外光刻机，也就是EUV光刻机。这个目标说太过于长远，但其实也就十年的事儿；但是说近，这十年当中我国芯片供应难题仍然得不到解决，再加上十年后或许其他国家已经遥遥领先了，而我国才刚刚起步，所以我们只能期盼着能够早日量产EUV光刻机。

EUV光刻机的研究十分困难，不但需要强大的半导体技术，还需要大笔大笔的资金投资，不但要有失败的勇气，还要赌上成功的运气。EUV极紫外光刻机不同于普通的光源、光学领域，甚至有着本质上的区别，可以算是一个新型技术，ASML为什么能成为全球唯一一家能够生产光刻机的公司？因为它背后的投资大佬是英特尔、三星、台积电等，如果那么容易就能够量产EUV光刻机，为什么财大气粗的英特尔、三星、台积电会愿意联手研发？

然而中国如今完全是一个自己摸索的状态，进度慢倒不是最严重的问题，如果研究出来的技术与ASML公司的重合，那才是最影响进度的，我国必须打断重来，因为这是人家的专利，我们不能用。不过，好消息是如今世界主流仍然是10-20nm制程工艺的芯片，除了手机需求的芯片比较特殊之外，国防芯片、电脑芯片、汽车芯片等还用不上那么先进的芯片，所以我们还有时间！相信我国如果专攻芯片、光刻机领域，那么我国一定能够走出一条国产光刻机之路。