【科技强哥说】，全新角度，通俗易懂，为你答疑解惑，带你了解科技！

据媒体报道，上海微电子设备公司突然宣布，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。虽然与国际先进光刻机还有很大差距，但从90 nm跨越到28nm，可以说进步巨大，这也将打破国外厂商的对IC前端光刻机市场的垄断。

大家一般都是因为美国对华为的制裁打压，才逐步知道光刻机，具体可能不太了解。光刻机按照用途可以分为IC 前道光刻机、封装光刻机、面板光刻机以及 LED/MEMS/功率器件光刻机四类。而我们常说的制造芯片所用的则是IC前道光刻机。

目前全球光刻机市场，主要有三家供应商：荷兰ASML、佳能、尼康，三家占据了全球99%的市场。而在高端市场中，荷兰ASML一家独大，占67.3%，也是唯一的EUV 光刻机供应商。因此，我国的中高端光刻机市场被这三家国外厂商垄断！

上海微电子（SMEE），作为国内技术最领先的光刻设备厂商，从低端切入各个细分市场，其主营业务就是光刻设备，目前直接持有各类专利及专利申请超过2400项。下面了解下上海微电子生产的4大系列光刻机在国内市场的地位及占比。

IC 前道光刻机

在IC 前道光刻机市场，国产化率较低，主要依赖于进口，市场被ASML、尼康和佳能瓜分。平常我们所了解的国产光刻机最高到90nm，就是上海微电子600系列步进扫描投影光刻机，面向IC前道制造。明年将交付的首台28nm国产光刻机，也是IC前道光刻机，因此说进步巨大！但跟国际先进水平差距仍较大。

封装光刻机

上海微电子500系列步进投影光刻机，面向IC后道先进封装，这方面成绩突出。上海微电子现已成为封测龙头企业的重要供应商，国内市场占有率高达80%，全球市场占有率也有40%。到这儿大家应该明白了吧，平常所说的占80%份额，是封装光刻机。

面板光刻机

上海微电子200系列光刻机，面向TFT曝光。在面板光刻机上，上海微电子已经实现首台 4.5 代 TFT 投影光刻机，并且进入用户生产线。但市场主流已经是6 代及 6 代以上，这方面主要被日本尼康和佳能所垄断。

LED/MEMS/功率器件光刻机

上海微电子300系列光刻机，面向LED、MEMS、功率器件制造。LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先，可以满足单双面光刻工艺需求，LED光刻机市占率第一。

结语：首台28nm国产光刻机虽然跟国际先进水平差距还不小，但意义重大！上海微电子生产的四大系统光刻机，已经是我国的中流砥柱，已经可以满足中低端市场需求，我们的国防和军事用到的芯片可以自主生产，而不至于被卡脖子。但也必须向高端光刻机进军，因为高端手机芯片和5G芯片还是需要先进的EUV光刻机才行。可喜的是，相关厂商都在努力进取，与先进差距正在缩小，国产高端光刻机未来希望还很大！

那么，大家现在对国内光刻机市场发展现状了解了吗，是不是该为他们点赞呢？

欢迎大家留言讨论，喜欢的请关注【科技强哥说】，后续内容更精彩。