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任正非曾表示，我国拥有世界顶级的芯片设计企业和先进的芯片制造工厂，由于EUV光刻机被卡了脖子，导致在美国挥动“芯片大棒”后，我国企业无法制造出高端“中国芯”。

EUV光刻机虽然被誉为现代工艺的明珠，但是我国地大物博、人才济济，在几十年前那么艰难的条件下，原子弹都可以造出来，为什么现在条件好了，反而在EUV光刻机被人卡了脖子呢？

原因很简单，EUV光刻机的研发是一个系统工程，而且工程量十分庞大。

EUV光刻机元器件

两年前，美国开始对华为制裁后，国内部分企业就曾表示，将在5年内研制出国产EUV光刻机。对于这个言论，美国科学院一院士很嚣张地进行了回应：即便是中国拿到了EUV光刻机的图纸，十年内也造不出EUV光刻机。

美国这位院士的话，虽然说得很尖锐，甚至可以说刺痛了我们极其脆弱的玻璃心，但是其说的是实情。

据ASML公司EUV光刻机工程师透露，EUV光刻机所需的元器件近10万个，而且每件都代表着业内的最高水准，而且90％以上的元器件从别的国家采购的，如美企的光源，德企的物镜，瑞典企业的轴承，法企的阀件，日企的光学器材等等。而EUV光刻机所需的核心元器件，无一来自我国企业。

这一事实，证实了我国基础工业与发达国家存在着一定的差距，尽管我们不愿意承认，但这就是事实。

光刻机的工作原理

世界上可以制造光刻机的企业有很多，如我国的光刻机制造巨头上海微电子，今年即可交付28nm级的光刻机，但是，在所有制造光刻机的企业中，唯有ASML公司可以制造EUV光刻机。原因很简单，就是在于光刻机的工作原理。

光刻机是利用光源能量、形状控制手段，将光束透过刻着集成线路图的掩模，经过光学补差后，将线路图印在硅片上。其本质就是对特定波长的光源进行高精度利用。

光刻机所使用的光源有激光、紫外光、深紫外光和极紫外光，而EUV所使用的就是极紫外光，因为他的波段足够短，具有更好的成像效果，也是制造高端芯片必要的光源。

目前，仅ASML公司掌握了极紫外光，这也是他能垄断EUV光刻机市场的最重要原因。

清华大学发现新光源，扭转乾坤

随着我国对EUV光刻机的深度研究，ASML公司对极紫外光的技术垄断或将成为历史。

近日，清华大学正式宣布，其物工系在研究新型加速器光源“稳态微聚束”的过程中，发现一种新的粒子加速光源，波长覆盖太赫兹到极紫外波段，且这种光源的最直接应用就是EUV光刻机。

根据上文对EUV光刻机的分析，清华大学发现的这种光源如果能够走出实验室，那么国产EUV光刻机的研发工作就完成了一半以上。

对于清华大学新光源的发展，不少业内人士表示，中国EUV光刻机的研发工作至少缩短了五年。

综上所述，如果我们在EUV光刻机研发工作完成的同时，能够寻找到可以替代美国企业的元器件，我们就能制造出国产EUV光刻机，扭转高端“中国芯”的困境。