打压国产光刻机?10年技术差距不会威胁到ASML,建厂无锡另有目的

自从去年美国针对我国华为、中兴等高新科技企业的516事件发生后,我国许多民众就特别关心在意我国的核心技术,最近,华为公司受到美国方面给出的最大暴击,美国将禁止台积电制造华为公司的海思芯片,要知道,台积电是全球最大的芯片制造厂,其技术暂时无任何一家芯片制造能与其比拟,这就意味着华为将迎来有史以来最大的危机。那么,华为就必将寻找另一家手机芯片制造厂,据悉,华为已经和我国的中芯国际达成了战略合作,并且中芯国际制造的首颗华为芯片麒麟710a已经投入使用,搭载在华为的中低端手机荣耀play 4t上,但这颗芯片只是一颗中端芯片,并且工艺制程也才14nm,远不如台积电主流的7nm,目前中芯国际也还无法量产7nm芯片,据说,中芯国际在明年会量产7nm芯片,但技术与台积电还是会有一段差距。

打压国产光刻机?10年技术差距不会威胁到ASML,建厂无锡另有目的


众所周知,芯片制造最关键的机器就是光刻机,而目前全球最大的光刻机制造商是ASML,最近传来消息,ASML将会到中国无锡建厂,这件事引起了很多人的关注,毕竟光刻机与芯片存在至关重要的关系,芯片作为非常难的核心技术,必定会受到众多关注,许多人将ASML建厂无锡理解为ASML为了打压中国光刻机从而产生的做法。

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但小名认为这其实是所谓的“阴谋论”,个人认为ASML建厂无锡与打压中国光刻机毫无联系。

中国光刻机还任重而道远

一般情况而论,一个公司或者一个国家要打击另一个公司或者另一个国家的竞品,肯定是要竞争方的技术已经超过己方,比如我国华为公司的5G技术远超美国,引领全球,于是就受到了心怀不轨的美国打压,或者竞争方的技术与己方技术类似华为芯片与高通芯片技术相差不大的情况,才会想方设法去打压竞争方,退一万步来说,就算竞争方实力不如己方,也得在相差不大的情况下,才会考虑去针对打压竞争方吧。

不可磨灭的是,我国光刻机与ASML光刻机技术相比还存在非常大的差距,ASML是全球最强的光刻机厂商,在全球光刻机市场中几乎处于完全垄断的地位,目前,它也占有全球百分之70+的光刻机市场,不仅仅如此,它还拥有百分之90+的光刻机高端市场份额,这还是非常恐怖的。

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ASML的光刻机目前已经能够量产5nm芯片,而目前我国的光刻机只能量产90nm,这是一个什么样的概念,ASML光刻机大概在10年前就能做到量产90nm,而我国光刻机目前也只能量产90nm,中间存在着10年的差距,也就是说,ASML在原地不动的状态下,中国按照ASML之前发展的速度追赶上ASML也需要十年,这是我们不得不承认的技术差距。那在中国光刻机技术与ASML光刻机相差距离如此大的情况下,ASML有必要针对我国光刻机吗?

况且,ASML在我国建厂,还能提供一些技术支持,到时候,从ASML工厂离职的中国人完全可以指导我国的光刻机技术,当然,这个可能性还是不怎么大。

ASML建厂无锡的目的

虽然我国的芯片核心技术不太如意,但是制造水平还是很高,目前为止,全球有百分之50的芯片都是在中国制造,那么中国市场必定有大量的光刻机需求,ASML建厂无锡就能做到因地制宜,并且中国强大的制造业也能为维护、制造光刻机提供一点帮助,还能够更好的做好中国及其附近国家购买ASML光刻机厂商的售后服务,这就是ASML牵手无锡的主要原因。

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另外,我国在光刻机上虽然与ASML有巨大差距,但是小名相信会越来越好的,之前的通信技术、核弹、大飞机等各种技术我国何不是与发达国家有巨大差距,但我国已经实现了追赶到持平,甚至部分技术达到领先,光刻机也是如此,时间会证明一切的!

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页面更新:2024-05-22

标签:光刻   无锡   华为   差距   目的   己方   技术   量产   小名   美国   中国   芯片   竞争   我国   全球   科技   公司

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