半导体｜三星华城厂V1产线工艺问题，部分5纳米产品良率不到50%

CINNO Research产业资讯，据了解，三星电子华城工厂半导体生产线部分超细微工艺出现生产问题。良品率率低于50%，简单地说，做10个产品的话，正常品不到一半。

据分析指出，为了改善良品率，投资尖端设备是关键。

资料图（图片来源：互联网）

去年2月，三星电子在京畿道华城的V1线开始稼动。

V1是7纳米以下先进半导体生产园区，是全球首条极紫外线、EUV专用生产线。

多位业内人士表示，“近期V1线的Foundry生产良品率没有改善，5纳米等部分量产产品良品率在50%以下。”

良品率是决定半导体技术实力和企业业绩的最重要因素。

黄铁成/首尔大学材料工程部首席教授称，在半导体制造中，良品率指的是在晶圆上的芯片数量与良品的比率。良率越高，生产的良品就越多，利润就越好。因此，良品率是最重要的生产因素。

目前，三星电子正与中国台湾TSMC在5纳米以下超细微工艺上角逐胜负。

分析指出，为了改善先进工艺产出率，EUV曝光设备等尖端装备投资是关键。

资料图（图片来源：互联网）

李宗焕/详明大学系统半导体工程系教授称，细微工艺适用的良品率一般超过95%以上。这样在计算成本时，才会有收益。如果不大规模地尝试曝光设备的量产规模，需要长时间进行优化，但是预计三星电子终将会克服这一问题

三星电子表示，“量产品的良率无法公布”，并称“整个生产线的量产运营正在按计划进行”。

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