光刻机,原本是非常冷门而且专业的设备,却因为华为的芯片断供,而进入大众的眼帘。
事实上,我们在芯片领域并非从0开始,华为的海思半导体的芯片设计水平已经位居前列,像是设计的麒麟9000芯片更是当前先进的5nm制程。
正如任正非所说,问题在于华为设计的芯片,以国内的基础工业的技术,造不出来!
那么在芯片制造环节,可不只有光刻机一样设备,还有着包括刻蚀机,PVD,CVD,量测设备,离子注入机,扩散/氧化设备等等。
而且在相关数据表明,除了光刻机投资占比30%之外,还有占比20%的刻蚀机,这意味着刻蚀机的重要程度仅次于光刻机!比其他设备高多了。
那么美国制裁华为,为什么却放任刻蚀机不管?毕竟刻蚀机的重要程度仅次于光刻机!
知道原因之后,不禁让人振奋!这同样是一个值得一提的故事!
在这里就不得不提到目前我国知名的半导体公司,中微半导体公司的创始人尹志尧。
中微半导体公司的成立时间并不长,只有15年,但是尹志尧的经验并不止15年,而是曾经在美国工作20年,率领30多名行业专家在上海创立了如今的中微半导体公司,在此之前,尹志尧被誉为“硅谷最有成就的中国人”!
很多人都知道,对于光刻机而言,国内还没有很强的公司,就连国产光刻机龙头,上海微电子目前能够量产的也只是90nm工艺的光刻机,相比之下荷兰ASML公司的光刻机已经可以生产5nm工艺的芯片了。
值得一提的是,被台积电同样采购用于组建全球第一条5nm芯片生产线的,除了ASML公司的EUV光刻机,还有中微半导体公司生产的刻蚀机!
这无疑是刻蚀机领域的弯道超车,在短短15年时间,中微半导体公司完成追赶到同步国际先进技术的成就。
在这里就要回到之前的问题:为何会放任同样重要的刻蚀机不管?
实际上在早前,刻蚀机同样被列入美限制清单,我们无法正常使用和采购,但是在中微半导体公司生产的刻蚀机打破国外垄断之后,刻蚀机就被移除出了限制清单,因为已经没有任何意义了。
我们国产的刻蚀机已经可以自给自足了,限制也显得毫无用处。
不仅如此,中微半导体公司先后申请了超过1200项发明专利,技术和国产的知识产权也得到了很好的保障,不用担心专利官司等因素影响公司。
毕竟中芯国际的创始人张汝京当年就是因为专利官司导致公司还得赔给台积电8%的股份。
当然会有人问,那么我们的刻蚀机可以限制出口给外国吗?实际上如今的中微半导体和泛林、应用材料、东京电子、日立等另外四家公司并称为全球五大刻蚀设备巨头!
其他四家公司的刻蚀机同样是有先进的芯片工艺,不像光刻机一样,高端的只有ASML一家,中低端的也只有尼康和佳能两家,占据了大部分市场份额。
但是正是刻蚀机的研发经历,告诉了我们一个道理,那就是只要肯钻研,再困难的设备和技术都有攻克的一天,国产自主研发的希望还在!
这才是中国芯的故事,也要感谢尹志尧博士,让中国人的精神为之振奋!
那么现在,你对我们的芯片半导体的实力是否了解更多了呢?
对此你有什么看法?欢迎留言讨论分享!
页面更新:2024-03-31
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