国产光刻胶、镜头、光源快速突破！外媒：为什么这么快

我们如今，处在信息爆炸的时代，而作为电子通信产业基石的芯片，自诞生以来，就肩负着重要的作用。尤其是经历了去年美国对我国芯片制裁之后，我国半导体芯片产业受制于人的劣势越发凸显，这也使得我国加快了布局半导体行业的脚步。为了能早日摆脱对外国的依赖，我国投入大量资金和心血进行研究，好在功夫不负有心人，短短几年的时间里，我们就完成了光刻胶、镜头和光源的全线突破，速度之快，另外国媒体瞠目惊叹。

先从光刻胶说起。作为芯片制造的必需品，光刻胶承担着最为基础的作用，如果缺了它，一切芯片的制备都是浮云。但是光刻胶的核心制造技术和工艺流程，在很长一段时间里，都被日本企业所垄断，我国乃至很多国家，除了依靠进口别无他法。原本一开始我们与这些日本企业，都建立了长期的合作关系，一直稳定供应，但是经过美国对华芯片制裁事件之后，日本迫于美国的压力，开始表露出停止为我国供应光刻胶的苗头。如果彻底断供，对我国芯片产业的负面影响，是不言而喻的。

好在国内很多企业纷纷表示担忧的同时，我国传出振奋人心的好消息——南大光电材料公司宣布，Arf光刻胶的研发已经取得成功，并且顺利完成项目验收。预计达到量产后，每年的产能可超过20吨，足够维持国内7nm芯片的制备需求。这就意味着我国光刻胶产业，正式迈出了决定性的一步，自此我们再也不用受制于日本，也不必担心美国的举措会对日企造成影响，可以说彻底打破了日本在光刻胶领域的垄断地位。

同时，不仅仅是光刻胶达到突破，就连一直以来，以研发艰难著称的光刻机，最近也频繁传出好消息。阿斯麦作为目前世界上光刻机的一枝独秀，不仅掌握着光刻机的核心技术，而且还是全球唯一能够研发制造高端光刻机的企业。它曾表示，除了自己，世界上没有再能造出光刻机的国家，即便是科技允许，也至少要花费二十年的时候，才能摸到门道。话虽然听起来狂妄，但光刻机难以制造也的确是不争的事实。

所以上海微电子自主研发的28nm光刻机，就显得格外珍贵。虽然这个型号的光刻机只是基础入门款，处于低中段水平，但已经是很大程度的突破了。而更为重要的是，与此同时，14nm的光刻机的研发也步入正规，预计过不了多久也会正式面世。可以说在芯片的制程领域，不断有着令人骄傲的新成绩刷新着。

不仅如此，中科院近期也宣布，国内首台辐射光源设备组装完成；而且中科科美也正式投产了高精度镀膜，以及通过国际标准验证的光学镜头。这意味着在芯片的制备过程中，光学方面我国已经有了足够的技术支撑。所以，可以毫不夸张地说，国产光刻机的三大核心技术难点，已基本得到解决，实现量产指日可待。

以上就是近期我国芯片产业取得的突破。尽管目前的成绩都只是尚且可以满足7nm芯片的需求，比起全球芯片更新的趋势，稍显落后。不过这个表现足以让国人骄傲，也让国外对“中国速度”之快惊叹不已。也正是这样的进步，让我们对未来攻克中高端光刻机领域，实现高精度芯片的制备，有了更加坚定的信心。

自从美国对我国采取芯片制裁开始，技术封锁虽然给我国以华为为首的诸多企业，带来了不小的冲击和影响，但也在某种程度上，促进了我国芯片制程产业的发展。若不是他们的围追堵截，或许“中国芯”也不会在这么短的时间之内，以让外国瞠目的速度，实现设备、材料、产能等多个层面的多维突破。

不过同时需要注意的是，我们不能因为盲目追求速度而降低了对品质的要求，和对流程的监管。而且更应当认识到，和国际芯片行业前沿水平的差距，逐步缩小。还有就是我国芯片制程产业起步较晚，整体行业环境，包括产业链和上下游模式，都没有国外那么完善和齐全，所以对发展会有一定的制约。只有不断完善，建立健康良好的产业环境，加上持续的研发，才能取得更多更大的成就，让世界都惊叹于“中国制造”和“中国速度”。