远不及一线大厂标准？韩媒爆料三星5纳米良率出大包

晶圆代工领域先进制程之争，目前仅剩下台积电、三星电子以及英特尔有能力竞争，然而，近期外媒却爆料，三星的5纳米制程良率竟远远低于合格的95%，而且是位于华城的V1厂，于2020年2月启动生产、为全球首座在7纳米以下制程采用极紫外光(EUV)曝光机的半导体工厂，为全球首座将极紫外光(EUV)微影设备的生产线。

据《BusinessKorea》报道，晶圆代工厂制程良率为取得订单的关键，一般来说良率达到95%才算合格，但传出三星V1厂良率竟达不到50%。市调机构TrendForce指出，今年第一季以台积电56%市占率高居第一，三星虽排名第二，但仅有18%的市占率，多年以来，三星都无法超越20%门槛。

据韩国民族日报先前报道，有「韩国半导体先生」称号的专家陈大济（Dae-Je Chin）认为，台积电与三星在本质上就有差异，台积电专攻代工项目，三星则拥有自产半导体产品的能力，这会与客户产生竞争关系，除非三星愿意将相关业务拆成独立公司，或许有机会达到台积电的一半规模，但不太可能直接超越台积电。

不过，三星于2019年4月24日公布「半导体愿景2030」，打算在2030年成为全球系统半导体龙头，预计砸1160 亿美元发展该公司的晶圆代工业务，打算利用EUV技术超越台积电，近期也宣布顺利在3纳米制程采用环绕闸极技术（Gate-All-AroundGAA）流片，预计在2022年量产。

不过，台积电也预计在今年下半年推出5纳米制程强效版，台积电2021技术论坛上，台积电总裁魏哲家宣布，4纳米制程预计至2021年第三季开始试产，较先前规划早一季时间，3纳米制程预计于2022年下半年量产。