DUV光刻机的生产速度到底有多快，网友：难在精确定位

身为芯片生产环节中最核心设备的光刻机，拥有着非常高的技术壁垒，有“半导体工业皇冠上的明珠”之称，意味着着人类发展史的智慧结晶。

在处理芯片如此1个分秒必争的领域里，时间就是金钱。

据ASML官网讲解，ASML也一直在追寻光刻机精致的的速度，现阶段最领先的DUV光刻机，每个小时能够 达成300片晶圆的光刻生产加工。

那是一个什么定义呢？

我们来计算下，达成一整片晶圆只需用12秒，这还得抵扣掉晶圆互相交换和精准定位的的时间，实际上光刻的时间要更短。

而一整片晶圆的光刻环节，需用在晶圆上近100个不一样的部位成像电路图案，因此 达成1个数字影像模块（Field）的曝光成像也就约0.1秒。

要完成这一个成像的速度，晶圆工作平台在以更是高达7g的加速度快速运作。7g加速度代表什么定义呢？F1赛车从0到100km/h加速约需用2.5秒，而晶圆工作平台的7g的加速度，若从0加速到100km/h只用约0.4秒。

DUV是深紫外线（DeepUltravioletLithography），EUV是极深紫外线（ExtremeUltravioletLithography）。

从制程工艺技术看来，DUV只可以用作生产加工7nm及之上制程处理芯片。而仅有EUV能满足了7nm晶圆制造，而且还能够向5nm、3nm持续延展。