在芯片不足的大环境下，全球各国都将目光死死地盯在了芯片的生产制造方面，我国作为制造大国，对芯片领域的研究脚步从未有过停止，如今又一新设备有了突破，国产设备已经基本覆盖生产链的全过程，专家先前的预测看来是真的要实现了。

芯片生产所需设备不断有新进展

说起中芯国际想必大家都非常熟悉吧，尤其是对科技领域关注的朋友会经常看到关于它的相关报道，它是国内芯片生产制造的代表企业，每一步的发展动向不仅在我国备受期待，在国际市场中也是被关注的一方。

如今中国芯国际的实力不断提高，逐渐向成熟级别芯片进军，大家都知道芯片生产制造过程中，其实需要用到很多的设备，尤其是等级越高，对设备的要求也会随着提高，所以在发展的过程中，难以避免需要从外企进口先进设备，来满足生产的需求。

正所谓是一代技术一代设备，尤其是在高端光刻机设备方面，我国由于相关因素的限制，无法对7nm芯片实现国产，无数设备组成一条完整的生产线，为了能够早日实现百分百独立发展，各个企业都在加快研究的步伐，现在许多设备都有了新的突破。

今年我国企业在抛光设备以及离子注入机设备等方面都有了不同程度的发展，在抛光设备方面级别已经达到了8英寸，它的主要功能就是对晶圆表面进行抛光，去除其杂质，继而使芯片达到标准，其中更值得关注的一点是该设备已经与中芯国际合作，也就是说其实力得到了专业认可。

在离子注入机方面，电科装备公司在今年也有了新的进展，推出了28nm级别的离子注入机，要知道在该领域我国其实一直是备受制约的，其重要性不比光刻机弱，对芯片的性能起到重要作用。

14/7纳米湿法设备，助力中芯国际

除了以上介绍的两种设备，至纯科技公司也为我们带来了一个好消息，那就是其研发的28nm湿法设备现在已经被运用到中芯国际的生产线当中，更值得我们为它点赞的一点是，14nm和7nm的湿法设备，官方表示按照现在的发展趋势，计划到2022年年末的时候会可以完成交付。

至纯科技公司的新突破为何会在全世界范围内引起广泛关注，要知道该领域之前一直是被美日韩企业所垄断，留给我国企业的发挥场地十分有限，国产的占比还不到1%。

在各种条件的限制下，我国企业一直难以占有已有一席之地，如今至纯科技公司将湿法设备的级别不断提高，说明我国在该领域正在一步步打破外企的技术封锁。

可能说到湿法设备大家会觉得比较陌生，确实由于它的应用环节比较靠后，所以很难引起太大的关注，但在芯片生产制造过程中却起到了至关重要的作用。

它的主要任务就是对芯片生产过程中的曝光、刻蚀等流程的清洗，其实简单来说就是清洗其表面的小颗粒等杂质，如果缺少了湿法设备，晶圆的成色就会出现极大的问题。

产业链全过程不断覆盖，专家的预言要成真

随着我国各个企业对芯片设备的不断研究探索，慢慢已经开始实现了从无到有，覆盖了芯片生产全过程，说明中芯国际在芯片生产制造过程中所需的设备，国内企业正在一步步为其满足，看来之前行业内专家的预测确实要成真了。

此前根据我国现在芯片领域的表现，专业人士就表示国产的28nm芯片将会在2021年年末的时候实现量产，而14nn则会在明年年末达成目标。

要知道14nm才是如今半导体行业的重点，如果实现了14nm及以上级别就可以满足70%的制造需求，就拿前年的数据为例，大家就可以更加清楚知道了，在前年1到6月，半导体行业中使用14nm制造工艺占到了65%，使用7nm的仅仅只有10%，其中的孰轻孰重一目了然。

14nm芯片在发展的过程中战胜了许多的困难，蚀刻机、薄膜沉积等重要设备都从一片空白到逐渐兴盛，如今14nm级别的湿法设备也在不久后交付，极大促进我国半导体产业的发展。

虽然我国因为后发制人，在很多方面都是稍微落后的，但是架不住我国企业奋起直追，中芯国际就是一个很好的印证，实现技术的超越，完全国产化只是时间的问题，14nm芯片的完全国产化就是我国可以实现完美超车的关键点，相信在国内各个企业的共同努力之下，我国终有一天可以做到百分百独立发展。