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导读：无法造出光刻机？中国“破冰”三项关键技术，ASML很现实的改口了！

自从老美的芯片禁令发布以后，台积电就不再继续给华为生产海思麒麟芯片了，而国内因为缺乏先进的EUV光刻机，所以也无法给华为生产芯片，这就直接导致华为的自研海思麒麟芯片成为了绝唱；我们想要打造出属于我们的国产化芯片产业链，那么也就意味着我们必须要先解决光刻机这个“卡脖子”的难题才行；如今国内已经展开了对光刻机的研发，并“破冰”三项关键核心技术，让我们也看到了国产光刻机的希望！

在全球的光刻机市场上，荷兰ASML公司几乎垄断了所有的市场份额，尤其是高端的EUV光刻机，只有ASML公司一家可以生产出来，所以ASML公司在光刻机市场上也拥有着最高的话语权；在中国表示要进军光刻机领域发展的时候，ASML公司的高管却公开表示：就算是公开EUV光刻机的图纸，我们也造不出来！而ASML公司的高管之所以敢这么说，主要是因为一台先进的EUV光刻机包含着10万多个零部件，而这些零部件的供应商则是来自于全球各地超过5000家的供应商；因为自主研发的难度比较大，所以ASML公司也才敢胯下海口说：国外无法造出光刻机！

虽然说光刻机的研发确实比较复杂，而且技术也比较困难，但是纵观中国过去几十年时间的发展，在很多前沿科技领域的发展，我们都曾被人“嘲笑”，甚至一直被技术封锁，但是经过国内科学家的不断努力研发，最终我们都取得了成功，光刻机就算是再难，它能难过“两弹一星”的研发吗？当然不能，所以攻克一个小小的光刻机，对于我们来说，也不是什么太大的问题！

随着中国科技团队的不断攻关，在光刻机生产的三大核心技术领域，我们也成功“破冰”；首先是光源方面，我国顶级的学府清华大学的相关科研团队已经实现了从太赫兹覆盖到极紫外光波段的粒子加速器的研发，有了极紫外光以后，EUV光刻机的光源问题也就得到了解决；另外在EUV光刻机工作的双工件台系统方面，我们也取得了突破，北京华卓精科所研发的双工作台系统已经被应用于ArF干式、浸没式步进扫描光刻机领域；最后还有EUV光刻机所需要的光学镜头国内也取得了突破，中科院在不断努力研发之下，成功研发出了高能同步辐射光源设备，这也将有助于国内实现光学镜头的的研发！

值得一提的是，在纳米聚焦镜镀膜装置领域和直线式劳埃透镜镀膜装置领域里，国内也取得了突破，而这两项技术主要就被应用于EUV光刻机的核心光学镜头之中；现在我们有了EUV光刻机所需要的光源系统，双工件台系统和光学镜头这三大核心技术以后，那么我们离实现国产EUV光刻机的生产也就更进一步，在看到中国在光刻机领域发展的这么快以后，ASML公司的总裁也很现实的改口了，ASML公司的总裁表示：美国禁止光刻机出口的禁令，将倒逼着中国在3年内就能实现光刻机的研发，要不了多久，他们就能实现自给自足，这无疑是错误的决定；接下来，ASML公司也将加大在中国市场的发展力度！

ASML公司作为全球领先的光刻机巨头企业，他很清楚光刻机的研发难度，以及中国市场的重要性；目前中国想要打造自主化的芯片供应链体系，那么中国也将成为全球第一大的光刻机市场，虽然说此前ASML公司一直都没有注重在中国市场的发展，但是现在来看，ASML公司如果再不加快在中国市场的发展，那么未来就将白白失去全球最大的光刻机市场，而ASML在光刻机领域的地位也将因此一去不复返，所以ASML公司也很现实的改口了，并开始主动的示好中国，不知道对此你是怎么看的呢？