前言

相信大家都知道，想要制造出一颗好的芯片，就离不开这么一台机器—光刻机。其中，想要制造出一颗高端的芯片，就需要光刻机里面的佼佼者—EUV光刻机。

自从华为宣布能够自研自产芯片之后，我们就沉浸在脱离国外技术封锁，实现自研芯片的快乐之中。但是，我们被卡脖子的点不只是在于研发之上。

还在于这个EUV光刻机之上。EUV光刻机作为世界上最先进的用于制作高端芯片的机器，一直是我国向往的东西。可惜，按我国的技术，还没有能力自主生产一台EUV光刻机

要生产7纳米以下的芯片，只有EUV光刻机能够做到。而这台机器，却只有ASML公司才能生产，可以说是一家独大。

ASML也因为这个“垄断”的机器，赚了不少的钱财，可谓是盆满钵满。

而我国也一直想购买一台EUV光刻机，可惜在美帝主义的封锁之下，我们并没有机会去获取这台机器。

在我国想自研自产EUV光刻机的时候，ASML却是不屑一顾，阿斯麦也放出豪言:“给你们图纸也造不出来EUV光刻机！”

但是最近，ASML却向我国国内紧急出货了78台的光刻机，和之前的态度是截然相反，甚至还有点求着我们买的意思。

是什么让垄断EUV光刻机的ASML这么乱了阵脚，向我们出货光刻机呢？让我们带着疑问一起来看看吧！

一、光刻机制作属实不易

从制造光刻机所需要的技术来说，就已经是非常的复杂了。制造光刻机需要掌握许多技术。

当然就是我们的光学技术，意思就是将一些图案投射到芯片之上。因此，光刻机制造厂商需要掌握到精准的光学上的调整和设计的技术，例如更好光源的替换、镜头的设计还有校准等方面的技术。

接着就是我们的感光材料技术，光刻胶是光刻机中最最重要的感光材料。光刻胶的制作需要掌握合成、涂覆和处理等技术，以满足芯片制造的需求。

再者就是控制技术，光刻机是高度自动化的设备，对于精确的图案转移和多层结构的制造，需要较高水平的运动控制和校准的技术。因此，光刻机制造需要掌握相当高的控制技术，包括伺服系统、传感器、调试和校准等方面的知识。

最后是蚀刻技术，蚀刻是芯片制造中必不可少的步骤，用于去除光刻胶未保护的区域。在光刻机制造中，需要掌握各种各样有关于蚀刻的方法

不仅是这些关键技术有没有掌握的问题，组装一台光刻机，同样也是不容易。组合一台EUV光刻机，需要45万多套的零件一起来组装，这已经是个天文级别的数字了。

不仅如此，这些零件还得需要五千多个厂家来生产，这是一条活生生的产业链，缺了哪一个都不行。

这么来看，要生产一台光刻机，属实是不容易啊。

二、中国专利，ASML慌乱

虽然在制作EUV光刻机上被处处限制，但我国凭借自己的努力，还是取得了突破，甚至比原来EUV光刻机所需的技术更加先进！

中企传芯半导体公布了一项振奋人心的技术，是一项由我国独自突破的光刻机专利技术，对光刻机的制作有着重大的意义

这是一项有关于EUV光刻机的核心技术，这也很好的证明了我国的自主创新能力是完全足够的，在研制光刻机的路途上更进一步。

再加上之前我们已经在光源、双件工作台等核心技术领域已经取得了突破，所以，制作出我国自己的一台EUV光刻机，这不是白日做梦！这是可能成为的现实。

我国这一项专利的突破，也成功让ASML感到恐慌，紧急向我国出货DUV光刻机，想要趁此在我国身上捞的一些钱，同时在我国留下一个好印象。

不仅如此，ASML也是想占据更多的市场份额，以此来抵御我国日后在市场上对他的威胁。

但是这一切都是徒劳的，在我国能够成功研制出EUV光刻机的那一天，ASML的地位肯定会被动摇，他现在所作的一切都是徒劳的。

结语

从这发生的一切我们可以清楚的知道，想要不被美帝主义卡死，就必须走我们自己的自主创新的路。

我也相信我国有这个能力破解卡脖子的一切问题，中国就是最棒的，令人无比自豪！

对此你有什么看法吗，欢迎留言参与讨论。