中国芯片制造已摆脱光刻机技术路线

近日，华为宣布通过投资纳米压印制造企业天仁微纳，选择采用纳米压印技术制造麒麟9000S芯片。

纳米压印技术作为一种高精度的芯片制造技术，与传统的光刻芯片制造有所不同。光刻芯片制造过程复杂，需要使用光刻胶和光刻机进行图像的雕刻和转移，而纳米压印技术则通过机械方式进行图像转移。纳米压印技术将电路图刻在模板上，然后将带有电路图的模板直接压印在晶圆上，完成电路图的转移。

说简单点，类似于中国古老的活字印刷技术应用于半导体制造领域，不过这个“活字”已压缩到纳米级，纳米压印技术让中国芯片制造彻底摆脱了对高端EUV光刻机的依赖，降低了高端芯片制造对设备的要求和成本。

现在中国有了光刻机替代技术，相当于在半导体制造领域正在实现换道超车。不管荷兰阿斯麦公司极紫外光刻机现在有多先进，沦落为昨日黄花是早晚的事情。

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