中国光刻机工厂已建成 弯道超车？官方揭开真相！

近日，网上疯传清华大学弯道超车，已经突破EUV光刻机项目，实现了光刻机的巨大化、工厂也已经在雄安新区落地，就是下图中这个样子：

难道这真的是国产光刻机工厂？

不，中国电子院对此做出了详细的解读：

这是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）！

HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施。

它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一，早在2019年就开始建设，将于2025年底投入使用。

△北京高能同步辐射光源项目实拍图

HEPS的作用是通过加速器将电子束加速到6GeV，然后注入周长1360米的储存环，用接近光速的速度保持运转。

电子束在储存环的不同位置通过弯转磁铁或者各种插入件时，就会沿着偏转轨道切线的方向释放出稳定、高能量、高亮度的光，也就是同步辐射光。

简单的说，HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。

它产生的小光束，可以穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。

HEPS是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。

该项目由全国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇带队，中国电子院多个技术科研和设计团队协同合作。

从项目可研立项到项目落地，中国电子院攻克了多项技术和工艺难关，解决了项目不均匀沉降、微振动控制、超长结构设计、光伏板设计、精密温度控制、工艺循环冷却水系统、超复杂工艺系统等七大技术难题，实现了重大技术突破，指标控制达到了国际先进水平。

目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工，向产生世界最“亮”的光又更近了一步。

虽然HEPS不是光刻厂，但关于光刻厂的信息之所以能在自媒体平台迅速刷屏，归根到底，还是源于大众对解决“卡脖子”难题的期待。

中国电子院也在，助力“中国芯”之路上持续发力，从建院之初，便开启了中国“芯”的起步。

近年来，中国电子院深耕细做半导体行业，承担了国内超过50%的存储芯片项目，为国家在电子信息领域实现科技自立自强做出了重要贡献。

中国电子院自主开发了核心算法和数字化技术，已推出“先进电子制造数字孪生工厂解决方案1.0版”，致力于实现生产制造“绿色、低碳、精益、高效”建设目标。

国家存储器基地：国内唯一本土企业主导的12英寸3D闪存生产线项目

中芯京城：国内规模最大的12英寸集成电路先进工艺生产线项目

广州粤芯：广东省第一座成功量产的12英寸集成电路芯片制造厂

福建晋华：第一条由本土企业建设并运营的12英寸DRAM芯片生产线

合肥晶合：国内第一座EPC模式新建的12英寸厂

英诺赛科：国际领先8英寸硅基氮化镓芯片生产线

厦门士兰微：国内第一条12英寸特色工艺IDM芯片制造

西安奕斯伟：国内规模最大12英寸硅片生产线

厦门通富微电：世界级绿色标杆集成电路封装测试基地

德州仪器（成都）：全球模拟芯片龙头企业先进封装项目