让光刻机变成“废铁”？中国光刻机死灰复燃，美日最担心的事出现

断供中国光刻胶，让中国光刻胶变成废铁？中国企业完成光刻胶自主研发，美日最担心的市场出现了。

上世纪八十年代时候，日本半导体产业崛起，甚至一度超过了半导体产业的发源地美国。在芯片制造、半导体设备和半导体材料等领域打得美芯巨头们无法应对。尼康、东京电子、佳能、东芝等日本半导体企业占据了全球半导体企业前十的七个名额，还是前七的。

面对日本半导体产业的崛起，美国采取了各种手段进行打压，不仅强制要求日本半导体企业和美国半导体企业分享核心技术，还对日本半导体产品加征关税，并且要求日本保障日本市场上美国半导体产品的市场份额不得低于20%。

在美国一系列组合拳之下，日本半导体产业发展陷入停滞当中，甚至是开始倒退，东芝等日本半导体企业纷纷开始宣布破产。最后日本仅剩下了半导体设备和半导体材料这两个产业还算不错，但是日本在光刻机方面也被荷兰的ASML超越。

让人无法理解的是，曾经被美国采用各种手段打压的日本半导体产业如今竟然再次和美国站在了一起，更是充当起了美国打压中国芯片产业链发展的“急先锋”。日本不仅和美国、荷兰签订了三方协议，从7月23日开始限制6类23种半导体设备的出货更是在最近喊出了：让中国光刻机全部变成废铁的嚣张言论。

面对日本的嚣张言论和不切实际的幻想，就连BBC也开始兴奋起来，甚至直接表示：日本此举将会给中国半导体产业重磅一击。日本的嚣张底气就来源于日本强大的半导体材料实力，尤其是日本近乎垄断了光刻胶材料。

光刻胶的重要性

众所周知，在生产芯片的过程当中，光刻机是最重要的半导体设备，光刻工艺也是最核心、最重要的加工环节，光刻机工艺的耗时占到了整个芯片生产过程当中的40%到50%左右，可以说如果没有光刻机就无法进行光刻工艺，就不可能生产出芯片。

不过在光刻工艺当中还有一个东西十分重要，甚至能够直接影响到芯片的良品率，这个东西就光刻胶材料。光刻机材料是芯片生产当中的核心原材料之一，其是一种用于抗腐蚀涂层的材料。在光刻工艺当中通常利用光刻胶在基片上勾画出集成电路纹路，之后利用光化学反应经过衍射和滤波处理之后的光信息转化为化学能力，从而实现精细团的刻画。

此前日本和韩国因为一些事情发生矛盾，日本就断供了韩国的光刻胶，这导致当时三星的芯片质量和良品率直接暴跌。两年之前日本福岛发生地震，日本的光刻胶工厂因此集体停工，当时中国的芯片产业就受到了严重的影响。

让中国光刻机变成废铁，日本将断供中国光刻胶？

日本之所以敢嚣张的表示要让中国的光刻机全部变成废铁，最主要的原因就在于全球光刻胶市场当中，日本占据了绝大多数的份额，其他的市场份额则主要被美国企业把控。在日本看来如果日本断供了中国的光刻胶供应，那么中国哪怕拥有再先进的芯片制程技术，拥有再多的光刻机设备中国也无法继续生产芯片。

在光刻胶领域，日本确实有嚣张的底气和本事，日本的四大光刻胶企业JSR、东京应化、日本信越化学和富士电子材料占据了全球70%以上的市场，日本此举又是配合美国针对中国芯片产业，美国的光刻胶企业肯定也会进行配合。

近期日本也是宣布将要限制光刻胶出货中国市场，配合日本此前限制6类23种半导体设备出货，在日本看来，这一套组合拳下来，真的能够让中国光刻机变成废铁。

只不过日本这种让中国光刻机变成废铁的想法显然有些自大和天真了。根据中国半导体材料厂商南大光电近期的正式表态来看：南大光电已经可以制造出AirF光刻胶，并且已经开始小规模量产供应给中芯国际等中国芯片制造厂商了。

虽然在顶尖的EUV光刻胶方面，中国厂商还没有取得什么突破，不过南大光电目前在光刻胶方面技术水平和生产能力已经基本上可以满足国内厂商的芯片制程技术了。这也就意味着日本限制光刻胶的出货虽然会对中国的芯片产业造成一定的影响，但是想要让中国的光刻机变成废铁无疑是在痴人说梦

最让美国和日本担心的是，中国不仅在光刻胶领域取得了突破，甚至还建设出了完整的芯片产业链。根据中芯国际传出的消息，中芯国际已经在联合盟友实验非美技术28nm流程，并且将在12个月之内实现7nm非美流程技术。

中国芯片产业链的迅速崛起最主要的依靠就是中国厂商在核心技术方面的投入，只有掌握了核心技术才能够避免被卡脖子。