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光刻机在芯片的制造过程中有着举足轻重的作用。它能够高精度地将电路图案“印”在硅片上，实现微观结构的制造。如此重要的仪器，我们却一直被别国卡着进口的数量，也限制着我国芯片业的发展。

新华网的一则消息，给我们打了一针安心针！新华网的报道，上海微电子正致力于设计28纳米浸没式光刻机，并预言会在今年年底制造出，第一台国产的SSA/800-10W光刻机设备并投入生产使用。

一、回顾：我们自己的先进光刻机还要等多久？

从中国有自制芯片的念头之后，光刻机的进口就被外国狠狠地卡着脖子。甚至直至今年的6月光刻机制造巨头--荷兰的ASML公司还新公布了一则声明，并更新了一些有关半导体设备的出口管制条例。其中就包括了先进的光刻机---DUV光刻机。

我们不难猜测出来，这次的新声明与美国肯定脱不了关系。美国不停地试图将光刻机纳入对我国的技术限制范围，也是为了维护自己在芯片领域的霸主地位，毕竟光刻机是芯片制造中至关重要的工具了。

美国一直以来都在芯片领域占据着主导地位，拥有先进的技术和大量的产能。

随着我国的快速发展，我们在芯片领域的实力也逐渐崛起。为了维护自己的优势地位，美国试图限制我国对光刻机的使用和研发，以阻碍我们在芯片制造领域的发展。过去的我们也是会时常发生感叹：我们自己的先进光刻机还要等多久呢？

二、光刻机--芯片制造最有利的仪器

读到这里，你可能会有疑惑，没有了光刻机难道我们就没法继续自己的研究了吗？现在就让我们聊一聊这个得力的芯片制造工具吧。

光刻机的历史最早可以追溯到1985年，英特尔创始人戈登摩尔博士曾提出摩尔定律，这一定律也为半导体的发展提供了绝对的动力

。当时的光刻机使用g线进行搭建，也就无法完成更精细的工作。

直到1990年，市面上出现了少量的DUV光刻机，台积电企业更是提出了“浸没式光刻机技术”。

从此光刻机的研究集中在了EUV上，在经过多年的研究之后，在2017年的研究报告中报道，EUV极紫外光技术已经跨入了5nm这一历史难题。

因此我们可以知道光刻机具备极高的精度和分辨率。在芯片制造过程中，它能够实现纳米级别的尺寸控制，确保芯片上电路的精确制造。

目前的替代技术尚未能达到光刻机的精度水平，因此光刻机在芯片制造领域仍是不可或缺的。

更重要的是光刻机具备广泛的适应性，能够适应不同材料的加工需求。

芯片制造过程中，需要对不同材料进行图案的“印刷”，而光刻机能够快速切换不同的光学系统和曝光方式，以满足不同材料的处理要求。

因此我们可以说，拥有自己的光刻机，是芯片独立的路上不能忽视的一个难关。

三、弯道超车，突破“卡脖子”技术

一些刻意抹黑我国形象的外国媒体，经常会说：一个光刻机身上的零件有接近十万个，只有科技大国才可以拥有，而中国是不可能凭一己之力完成对光刻机的研发的。这些人估计在看到新华网的报道之后脸也会黑下来吧！

当然，对于外媒所说光刻机身上的零件接近十万个，那是没错，确实有很多零件。他们又为什么以此来否定中国有能力自主研发光刻机呢？

我们也愿意承认，中国的科技技术和外国固然是有一些差距，但是我们拥有众多优秀的科学家、工程师和研究团队，他们在科技创新方面也已经做出了卓越的贡献。

相信做出让外国媒体目瞪口呆的成绩也只是时间的问题而已。正如一些网友所说：“航母不是有着波光刻机更多的零件吗？中国不也造出来了？”

最后，也不否认中国在光刻机领域还面临一些挑战。光刻机的研发需要庞大的投资、复杂的技术和长期的努力。但是中国已经开始着手解决这些问题，通过持续的研发和合作，期待能够实现对光刻机的自主研发。

结语：

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