中方反制宣布后，美荷限制进一步加码！外媒：反击开始了

美方实施出口管制的目的，近日美媒《纽约时报》承认了，就是意图削弱我们生产和购买高端芯片的能力，以根除我们整个先进技术生态系统，影响我们一代人的进步。

所以我们当然不会再任之由之，当日本、荷兰相继发布出口管制后，我们宣布对此进行反制。但他们似乎并没有悔改，美荷反而进一步加码限制，外媒表示反击开始了！

为实施更加严格的出口管制，美方去年10月发布了史上最严的出口管制新规，直接将限制标准提升到了14nm及以下制程，还增加了对存储芯片发展的具体限制规则。

为此就盯上了浸没式DUV光刻机，因为之前限制的EUV主要用于7nm以下，要限制14nm以下制程就要扩大光刻机限制。因此，美方就拉拢能生产DUV的日荷两方。

这样，荷兰ASML和日本尼康就成了重点，不过尼康的产量较小，重点还是ASML。

在美方的积极运作下，今年1月底美日荷达成了三方协议，将就先进半导体制造设备共同实施出口管制。日本行动非常迅速，率先宣布将于7月23日正式实施出口管制。

日本限制规则还非常严格，直接限制了45nm以下光刻机，导致尼康不能出货DUV。

近期，荷兰也宣布将于9月1日正式实施出口管制。不过，荷兰对浸没式光刻机增加了一个验证标准，这样ASML还可以出货一款浸没式DUV，算是留下了一个小缺口。

随着日本、荷兰陆续宣布出口管制，美方推进的三方协议即将落到实处，届时将会限制绝大部分先进半导体制造设备，因为美日荷三方基本垄断了全球半导体设备市场。

三方合计份额能够占到90%左右，更为关键的是先进浸没式DUV光刻机也被限制。

对此，我们必须进行有力的反击，不能让他们的合伙阴谋得逞。于是，我国商务部宣布将于8月1日起，对镓、锗相关物项实施出口管制，直接打击了他们的嚣张气焰。

之所以选择限制这两项物料，主要是因国外都要向我们进口，并且这两镓、锗相关的物项还是半导体产业的基础材料，美日荷技术再先进，短期内也解决不了这个问题。

然而，他们似乎还不打算沟通解决问题，反而将实施更严格的限制，想逼迫我们做出让步。近日，美媒彭博社发布消息，知情人表示美荷将会进一步对光刻机加码限制。

荷兰将要求ASML在未经政府批准的情况下为受管制设备提供维护、维修和备件支持。

这说明，荷兰不仅要限制ASML出货先进浸没式光刻机，连之前已经售出的先进光刻机的售后也要限制。就是说，一旦我们的先进光刻机出问题，售后也需要申请许可。

这限制就有点过分了，如果许可不能通过，那么已经购买、正在产线的先进光刻机出了问题，就只能变成“废铁”了？不仅如此，美方还就旧款浸没式DUV提出新要求。

预计美方将禁止ASML未经他们批准，不得向6家中企出货，其中就有中芯国际。

据知情人士透露，美方还将对ASML适用所谓的“外国直接产品”（FDP）规则，该规则一向被美方用于对境外企业实施“长臂管辖”，为此该项规则多次引起各地不满。

因为该规则允许美方限制国外企业，但凡使用美技术或设备，产品都要经美方批准。

更狠的是，美方还将对ASML提出新要求，对6家中企晶圆厂已购受管控设备，未经他们许可不得提供维护、维修和零部件支持。可见，ASML成了美方的重点对象。

由此可见，ASML将成为美荷出口管制的牺牲品。ASML不仅会因此损失越来越大，还会不断失去好不容易获得的大陆市场。受此影响，近日ASML已经放缓全球招聘。

对我们来讲，那当然也有影响，高端芯片发展受到限制，但如今我们已经重点发展成熟制程，影响还不是特别大。况且，我们的28nm光刻机正在攻坚，马上就要突破。

美荷即使进一步加码限制，也只会加速我们的突破进程，阻挡不了我们的前进步伐！